[发明专利]一种真空吸盘及真空吸附结构

权利要求书

1.一种真空吸盘，其特征在于，包括吸盘底面、气密垫片和后盖，所述后盖上设置有环状台阶，所述气密垫片设置于所述吸盘底面和所述后盖之间的所述环状台阶处，所述吸盘底面和所述后盖通过紧固件相连，所述吸盘底面的内侧设置有凹槽，所述凹槽的槽底上设置有分隔条，所述分隔条将所述凹槽分为多个腔体区域，所述分隔条与所述后盖的内侧贴合，所述后盖上与各所述腔体区域对应的位置均设置有一第一通孔，所述吸盘底面上与各所述腔体区域对应的位置均设置有数量相同的第二通孔，所述吸盘底面的外侧与所述第二通孔对应位置处设置有中空的固定柱；

所述分隔条为四个且形状相同，四个所述分隔条的一端相连于所述凹槽的中心处，四个所述分隔条的另一端与所述凹槽的槽壁相连；

所述凹槽为圆形槽，所述分隔条沿顺时针或逆时针方向螺旋延伸，包括多个圆弧段和连接段，所述连接段连接相邻的两个所述圆弧段，所述连接段在所述凹槽中心处将多个所述分隔条相连，所述连接段将所述分隔条的末端与所述槽壁相连，所述圆弧段与所述凹槽同心，相邻所述分隔条的所述圆弧段之间的距离等宽，相邻所述分隔条的所述连接段之间的距离等宽，所述第二通孔在各个所述腔体区域内处于相同位置。

2.根据权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于，所述固定柱包括旋入段和伸出段，所述旋入段与所述第二通孔螺纹连接，所述伸出段的直径大于所述旋入段的直径，所述伸出段上套设有挡圈。

3.根据权利要求1所述的真空吸盘，其特征在于，每个所述腔体区域上，对应设置有两个所述第二通孔，两个所述第二通孔与所述凹槽的中心的径向距离不同。

4.一种真空吸附结构，其特征在于，包括如权利要求1所述的真空吸盘，所述后盖外侧的所述第一通孔处连通有吸管，多个所述吸管通过汇流节汇流，所述汇流节与气道管连通，所述气道管与真空泵连通，所述真空泵上连接有一机械臂。

5.根据权利要求4所述的真空吸附结构，其特征在于，所述机械臂包括底座、腰部、大臂和小臂，所述腰部设置于所述底座上，所述腰部上设置有用以带动所述大臂摆动的大臂旋转电机，所述大臂旋转电机的输出轴与所述大臂的一端传动连接，所述小臂的一端设置有小臂旋转电机，所述小臂旋转电机的输出轴与所述大臂的另一端传动连接，所述小臂的另一端与所述真空泵固定连接。

6.根据权利要求4所述的真空吸附结构，其特征在于，所述真空吸盘为四个，均通过所述吸管、所述汇流节和所述气道管与所述真空泵连通。