[发明专利]一种快速生成参数化单元的方法

说明书

本发明公开一种快速生成参数化单元的方法，包括以下步骤：（1）在版图编辑工具的用户图形界面上设计出用于生成参数化单元所需的一个或多个二维几何图形，并对最终生成的参数化单元需要的图形属性进行参数定义；（2）设定二维几何图形之间的约束关系，所述约束关系包括位置约束和形状约束；（3）运算约束计算引擎生成参数化单元；（4）将步骤（3）得到的参数化单元按照相应的脚本转换规则转换为脚本。本发明可以通过约束关系可以改变几何图形的位置关系，也可以改变几何图形的形状，能简化使用方法。

技术领域

本发明涉及半导体设计和生产领域，尤其涉及一种快速生成参数化单元的方法。

背景技术

由于集成电路是一种非常复杂且高度集成化的产品，集成电路设计因为受到高密度设计、工艺制程、设计规则等诸多约束而越来越繁琐。一般半导体制造企业为会向芯片设计公司提供工艺开发包(PDK)，PDK里面有很多的参数化单元，参数化单元是一种图形化可编程单元，每个图形的构成元素均被赋予参数属性以适应各种规则设计变化。芯片设计公司在设计芯片的时候，会调用PDK里面的参数化单元以满足不同的设计需求。随着工艺节点越来越小，工艺开发包也越来越复杂，以0.18um RF(射频电路)和65nm RF的PDK包做比较，可以看出0.18um RF的PDK包中只有120个器件而65nmRF的PDK包中已经有590个器件，同时DRC和LVS的规则文件更是成几何数量级增长。目前最先进的集成电路工艺已经达到7/5nm，其工艺开发包中的器件与规则文件则更为繁多。

半导体制造企业在开发工艺线、提高产品成品率的过程中，也会利用参数化单元来做大量的实验设计(DOE)，利用这些实验设计来进行大量的测试，以获取制程良率改善所必须的数据，包括用于提取材料、制造工艺、器件和电路参数，用于检测工艺缺陷、评估产品可靠性、制定版图设计规则、评估工艺设备性能等。

公开号为CN102930088B的发明专利公开了一种产生参数化单元的方法。该发明在图形界面上设计一个或多个参数化单元，并设定参数化单元之间的约束关系。用户不需要编写参数化单元脚本，降低了设计的复杂度。工程师在设计和开发参数化单元时，是将其技术规格，如关键尺寸、线宽、线间距、图层以及图层间相对位置关系等数据，用参数来表示并控制参数化单元的相关属性。由此可见参数化单元的形状是在形状创建之后根据参数编写公式通过软件程序控制的，其后期的约束关系主要用于改变几何图形的位置关系，无法通过约束关系动态的改变几何图形的形状大小。这样导致工程师在设计参数化单元时，会花费很大的精力来设置该单元中的参数化图形的计算公式，以满足参数化单元的参数变量在不同值的设定时所生成的版图满足技术规格的约束。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的目的在于提供一种快速生成参数化单元的方法，在距离约束、对齐约束等位置约束的基础上进一步提出形状约束的概念，既通过约束关系，可以改变几何图形的位置关系，也可以改变几何图形的形状。

为了实现上述的目的，本发明采用了以下的技术方案：

一种快速生成参数化单元的方法，包括以下步骤：

(1)在版图编辑工具的用户图形界面上设计出用于生成参数化单元所需的一个或多个二维几何图形，并对最终生成的参数化单元需要的图形属性进行参数定义；

(2)设定二维几何图形之间的约束关系，所述约束关系包括位置约束和形状约束；

(3)运算约束计算引擎生成参数化单元；

(4)将步骤(3)得到的参数化单元按照相应的脚本转换规则转换为脚本；

其中步骤(3)中约束计算引擎生产参数化单元的具体工作步骤如下：

(3-1)对步骤(2)的约束关系进行调试，判断各几何图形间的约束关系是否满足相应设计规则，若不满足要求则无法通过调试，需要返回用户图形界面进行修改，直到调试通过；