[发明专利]立体电极的制作方法和蓝相液晶显示面板的制作方法

权利要求书

1.一种立体电极的制作方法，其特征在于，所述立体电极的制作方法包括以下步骤：

在基板上形成立体电极的基底；

倾斜所述基板，通过沉积以仅在所述立体电极的基底的表面上形成导电层，得到立体电极，其中，所述导电层产生的电场线更密集且基本在水平方向平行分布，所述基板的倾斜角度根据所述立体电极的高度和/或相邻所述立体电极之间的间距确定。

2.根据权利要求1所述的立体电极的制作方法，其特征在于，所述形成导电层的步骤包括：

按预定倾斜角度倾斜所述基板，以在所述立体电极的基底的部分表面上形成导电层；

然后，按与所述预定倾斜角度的互补角倾斜所述基板，以在所述立体电极的基底的除所述部分表面之外的其余表面上形成导电层。

3.根据权利要求1所述的立体电极的制作方法，其特征在于，所述立体电极的基底垂直于所述基板的截面形状为三角形、矩形、正方形或梯形。

4.根据权利要求1所述的立体电极的制作方法，其特征在于，采用物理气相沉积在所述立体电极的基底的表面上形成导电层。

5.根据权利要求4所述的立体电极的制作方法，其特征在于，所述物理气相沉积包括真空蒸镀、溅射镀膜或离子镀膜。

6.根据权利要求1所述的立体电极的制作方法，其特征在于，所述立体电极的高度为3～10μm，相邻所述立体电极之间的间距为5～10μm，所述基板的倾斜角度为14°～60°。

7.根据权利要求1所述的立体电极的制作方法，其特征在于，所述立体电极的基底为光阻基底。

8.根据权利要求1所述的立体电极的制作方法，其特征在于，所述在基板上形成立体电极的基底的步骤包括：

将光阻剂涂布在所述基板上以形成光阻剂层；

在光罩的作用下对所述形成有光阻剂层的基板进行曝光；

显影并硬化，得到所述立体电极的基底。

9.一种蓝相液晶显示面板的制作方法，其特征在于，所述蓝相液晶显示面板的制作方法包括以下步骤：

形成上基板和下基板；

采用如权利要求1至8中任意一项所述的立体电极的制作方法在所述上基板和/或所述下基板上形成多个所述立体电极；

在所述上基板和所述下基板之间填充蓝相液晶；

将所述上基板和所述下基板结合。