[发明专利]激励生成装置的模板库构建方法、芯片验证方法及系统

权利要求书

1.一种激励生成装置的模板库构建方法，其特征在于，包括：

对芯片验证的覆盖率数据进行数据分析，得到与验证激励对应的覆盖率提升值；

将所述覆盖率提升值和预设阈值进行比较，根据比较结果得到目标激励，其中，所述目标激励为芯片验证过程中对覆盖率提升贡献达到期望的激励；

将所述目标激励对应的约束文件添加至激励生成装置的模板库。

2.一种芯片验证的方法，其特征在于，包括：

从如权利要求1所述方法获取的模板库中获取约束文件；

按照预设规则对所述约束文件中的约束条件进行调整，得到最终约束条件；

根据所述最终约束条件生成验证激励。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，从模板库中获取约束文件的步骤包括：

获取与所述模板库中约束文件对应的覆盖率提升值；

根据所述覆盖率提升值的大小从所述模板库中获取约束文件。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，根据所述覆盖率提升值的大小从模板库中获取约束文件的步骤包括：

根据所述约束文件对应的覆盖率提升值是否达到提升阈值，选择约束文件。

5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，根据所述覆盖率提升值的大小从模板库中获取约束文件的步骤包括：

根据所述覆盖率提升值的大小对所述约束文件进行排序，根据排序结果获取约束文件。

6.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述按照预设规则对所述约束文件中约束条件进行调整，得到最终约束条件的步骤包括：

对所述约束文件中的相关指令条件进行指令扰动，得到最终约束条件。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，对所述约束文件中的相关指令条件进行指令扰动，得到最终约束条件的步骤包括：

对所述约束文件中的指令顺序进行顺序扰动，得到最终约束条件。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，对所述约束文件中的指令顺序进行顺序扰动，得到最终约束条件的步骤包括：

获取顺序扰动参数，根据所述顺序扰动参数对所述指令顺序进行顺序扰动，得到最终约束条件。

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，对所述约束文件中的相关指令条件进行指令扰动，得到最终约束条件的步骤包括：

对所述约束文件中指令域值进行域值扰动，得到最终约束条件。

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，对所述约束文件中指令域值进行域值扰动，得到最终约束条件的步骤包括：

根据预设的指令域值的变化值分布，对所述约束文件中指令域值进行域值扰动，得到最终约束条件。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述变化值分布选自均匀分布、正态分布、柯西分布、拉普拉斯分布或者逆伽玛分布中的一种。

12.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，根据预设的指令域值的变化值分布，对所述约束文件中指令域值进行域值扰动，得到最终约束条件的步骤包括：

获取所述变化值取值范围，在所述变化值的取值范围内对约束文件中指令域值进行域值扰动，得到最终约束条件。

13.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，对所述约束文件中指令域值进行域值扰动，得到最终约束条件的步骤包括：

对指令域值进行域值扰动，使指令域值的变化值满足列维分布，得到最终约束条件。