[发明专利]偏光片光学参数的测量方法及测量装置在审
| 申请号： | 201711483432.2 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN108181095A | 公开（公告）日： | 2018-06-19 |
| 发明（设计）人： | 海博 | 申请（专利权）人： | 惠州市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02;G02B5/30 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 | 代理人： | 孙伟峰;武岑飞 |
| 地址： | 516000 广东省惠州市仲恺高新技术*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学参数 补偿膜 测量参数 偏光片 测量 入射线偏振光 测量装置 出射光线 第二测量 第一测量 下偏光片 偏光 对偏光片 光学性能 偏光度 暗态 | ||
1.一种偏光片光学参数的测量方法，偏光片包括补偿膜和PVA层，其特征在于，所述测量方法包括：
第一状态下，入射线偏振光依次经过补偿膜和PVA层，获取该状态下偏光片出射光线亮度最低和亮度最高时的第一测量参数和第二测量参数；
第二状态下，入射线偏振光依次经过PVA层和补偿膜，获取该状态下偏光片出射光线亮度最低和亮度最高时的第三测量参数和第四测量参数；
根据第一测量参数、第二测量参数、第三测量参数及第四测量参数中的一个或多个获取偏光片中补偿膜和/或PVA层的光学参数，所述光学参数包括暗态亮度、对比度、偏光度中的任意一种或多种。
2.根据权利要求1所述的测量方法，其特征在于，所述第一状态下的第一测量参数包括暗态亮度Lv1，第二测量参数包括亮态亮度Lv2；所述第二状态下的第三测量参数包括暗态亮度Lv3，第四测量参数包括亮态亮度Lv4。
3.根据权利要求2所述的测量方法，其特征在于，所述光学参数包括下述任意一种或多种：
PVA层对暗态亮度的影响为：Lv3；
PVA层和补偿膜对暗态亮度的影响为：Lv1；
补偿膜对暗态亮度的影响为：Lv1-Lv3；
PVA层对对比度的影响为：Lv4/Lv3；
PVA层和补偿膜对对比度的影响为：Lv2/Lv1；
补偿膜对对比度的影响为：(Lv4/Lv3)-(Lv2/Lv1)；
PVA层对偏光度的影响为：(Lv4-Lv3)/(Lv3+Lv4)；
PVA层和补偿膜对偏光度的影响为：(Lv2-Lv1)/(Lv1+Lv2)；
补偿膜对偏光度的影响为：(Lv4-Lv3)/(Lv3+Lv4)-(Lv2-Lv1)/(Lv1+Lv2)。
4.根据权利要求2所述的测量方法，其特征在于，所述测量方法还包括：
第一状态下，获取偏光片出射光线亮度最低和亮度最高时的第一穿透频谱和第二穿透频谱；
第二状态下，获取偏光片出射光线亮度最低和亮度最高时的第三穿透频谱和第四穿透频谱。
5.根据权利要求1所述的测量方法，其特征在于，所述第一状态下的第一测量参数包括暗态穿透率T1⊥，第二测量参数包括亮态穿透率T2∥；所述第二状态下的第三测量参数包括暗态穿透率T3⊥，第四测量参数包括亮态穿透率T4∥。
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