[发明专利]一种非晶合金等离子纳米抛光工艺

说明书

本发明公开了一种非晶合金等离子纳米抛光工艺，抛光液中通电脱离的金属离子吸附在被加工的工件表面，被加工的工件凸起处电流冲击高摩擦大从而磨削快，电流流动不断产生碰撞和摩擦，凹凸处不断变化，粗糙表面逐渐变得平整、光滑，再经过超声清洗得高精度、高亮度且外观具有镜面效果的非晶合金产品，表面粗糙度(Ra)均可达0.0005mm，是一种全新环保型的非晶合金金属表面处理工艺，成本低、无污染且易于操作。

技术领域

本发明属于非晶合金表面处理技术领域，具体涉及一种非晶合金等离子纳米抛光工艺。

背景技术

等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正电的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和需要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。等离子纳米抛光技术是一种全新环保型非晶合金金属的表面处理工艺，通过抛光液中通电脱离的金属离子吸附在被加工的工件表面，被加工的工件凸起处电流冲击高、摩擦大，从而磨削快，由于电流流动会不断产生碰撞和摩擦，所以凹凸处不断变化，因此粗糙的产品表面逐渐变得平整光滑，最后再经过超声清洗得到高精度、高亮度且外观具有镜面效果的非晶合金产品。与传统的化学电解抛光相比，上述抛光工艺中抛光剂溶液不参加化学反应，成本低，非晶合金采用此种表面处理抛光工艺成本非常低。

发明内容

为克服现有技术的上述缺陷，本发明的目的在于提供一种非晶合金等离子纳米抛光工艺，解决非晶合金结构件的表面抛光处理。

本发明的上述目的通过以下技术方案实现：

一种非晶合金等离子纳米抛光工艺，包括以下步骤：

S1、准备抛光液；

S2、将步骤S1中所述抛光液倒入工作槽中，设置所述工作槽的加热温度为90～110℃；

S3、将被加工的工件放入步骤S2中所述工作槽中，设置15～30min后启动电源，所述被加工的工件开始进行等离子纳米抛光，抛光时间为15～30min；

S4、关闭所述电源后，取出步骤S3中所述纳米抛光后被加工的工件，超声清洗，烘干或吹干。

优选地，步骤S1中，所述的抛光液为质量浓度为3％～7％的纳米级电解抛光液，pH值为6～8。

优选地，步骤S1中，所述纳米级电解抛光液的抛光盐，按照质量百分比计，包含：硝酸盐12％～17％，碳酸钡20％～25％，纳米无机物50％～60％，稳定剂2％～10％。

优选地，步骤S1中，所述的硝酸盐包括硝酸钾和/或硝酸钠。

优选地，步骤S1中，所述的纳米无机物包括纳米SiO₂和/或纳米TiO₂，粒径为5～20m。

优选地，步骤S1中，所述的稳定剂包括氢氧化钠和/或氢氧化钾。

优选地，步骤S3中，所述被加工的工件包括锆基非晶态合金。

优选地，步骤S3中，所述的电源为直流电，电压为230～380V，电流密度为50～100A/d㎡，所述工作槽的阴极与阳极面积比为10～100:1。

优选地，步骤S4中，所述的吹干通过无油净化压缩空气吹干。

另外，一种上述非晶合金等离子纳米抛光工艺的装置包括：电源、被加工的工件、抛光液和工作槽，其中，所述抛光液置于所述工作槽内，所述电源的正级与所述被加工的工件相连，置于所述抛光液内，所述电源的负极与所述工作槽的阴极相连。