[发明专利]清洁装置

说明书

本发明涉及一种清洁装置，其包括一对清洁结构，一对清洁结构整体形成中间有空腔的V型槽，V型槽用于容置待清洗的涂胶机喷嘴，清洁结构设置擦拭组件，擦拭组件包括滚动擦拭结构与挤液结构，滚动擦拭结构用于在滚动时擦拭所述涂胶机喷嘴，并在擦拭时吸取接触到的清洁涂胶机喷嘴的清洗液，挤液结构邻近滚动擦拭结构设置，用于通过挤压方式挤出滚动擦拭结构所吸取的清洗液。清洁装置的设置，在出液管喷出清洗液的同时擦拭组件就将清洗液吸干，挤液结构通过挤压方式挤出滚动擦拭结构所吸取的清洗液，避免了涂胶机喷嘴外部的清洗液进入喷嘴的内部，避免了喷嘴尖端口清洗液的残留，进而避免了在涂胶过程中对膜层厚度的影响。

技术领域

本发明涉及涂胶领域，特别是涉及一种清洁装置。

背景技术

在平板显示的成像制程中，大尺寸玻璃基板的涂胶基本都使用线性涂胶机，对玻璃基板进行刮涂光刻胶，所要求的性能是：膜层厚度的均一性控制在3％以内，不能存在膜层薄厚不均、缺胶等不良现象。但当连续涂胶一段时间后，会存在干的光刻胶将涂胶机喷嘴堵塞的情况，导致涂胶膜厚均一性变差，出现膜层薄厚不均等不良现象。这时就需要人为使用刮片对喷嘴进行刮洗，刮洗过程中光刻胶、清洗液会渗透到手套里面，接触到皮肤，进而对皮肤产生腐蚀作用，影响人体健康。另外，在涂胶过程中，每涂胶一定数量的玻璃后，根据设定程序会对喷嘴外部自动进行吹洗，吹洗方式为将清洗液先喷在整个喷嘴尖端口，待全部喷上清洗液后，再对喷嘴尖端口进行吹氮气，将喷嘴尖端口吹干，吹洗后喷嘴尖端口会残留有清洗液，进而在后续涂胶过程中影响膜层厚度。

发明内容

基于此，有必要提供一种涂胶机喷嘴的清洁装置。

一种清洁装置，包括一对清洁结构，所述一对清洁结构整体形成中间有空腔的V型槽，所述V型槽用于容置待清洗的涂胶机喷嘴；

所述清洁结构设置擦拭组件，所述擦拭组件包括滚动擦拭结构与挤液结构，所述滚动擦拭结构用于在滚动时擦拭所述涂胶机喷嘴，并在擦拭时吸取接触到的清洁所述涂胶机喷嘴的清洗液；所述挤液结构邻近所述滚动擦拭结构设置，用于通过挤压方式挤出所述滚动擦拭结构所吸取的所述清洗液。

在其中一个实施例中，所述滚动擦拭结构包括上滚轮结构及清洁部，所述清洁部覆设于所述上滚轮结构的旋转面上，所述清洁部用于在所述上滚轮结构转动时，滚动擦拭所述涂胶机喷嘴，并在擦拭时吸取接触到的清洁所述涂胶机喷嘴的清洗液。

在其中一个实施例中，所述挤液结构为与所述上滚轮结构具有相平行的旋转轴的下滚轮结构，所述下滚轮结构用于在转动时，其旋转面压触所述清洁部，以通过挤压方式挤出所述清洁部所吸取的清洗液。

在其中一个实施例中，所述清洁结构还包括U型件；所述U型件具有相平行的一对固定臂，所述上滚轮结构轴接于一所述固定臂，所述下滚轮结构轴接于另一所述固定臂。

在其中一个实施例中，所述清洁结构还设置出液管，所述出液管的一端用于输入外部的所述清洗液，另一端用于输出所述清洗液到所述涂胶机喷嘴。

在其中一个实施例中，所述一对清洁结构对称设置。

在其中一个实施例中，所述清洁装置还包括一对支撑件，每一所述支撑件对应一所述清洁结构，所述支撑件上设置有滑槽以及滑动设置于所述滑槽的滑杆，所述滑杆用于支撑所述清洁结构。

在其中一个实施例中，所述清洁装置还包括电机，所述电机分别连接两个所述滑杆，用于分别控制两个所述滑杆于对应的所述滑槽滑动以调整两个所述滑杆的相对距离。

在其中一个实施例中，所述清洁装置还包括气缸，所述气缸具有伸缩杆，所述伸缩杆的端部用于连接刮片。

在其中一个实施例中，所述清洁装置还包括连接部，所述连接部设置于所述伸缩杆的端部，所述连接部用于连接所述刮片。