[发明专利]不等高垂直梳齿器件及其制备方法在审
申请号: | 201711479000.4 | 申请日: | 2017-12-29 |
公开(公告)号: | CN107986227A | 公开(公告)日: | 2018-05-04 |
发明(设计)人: | 李文翔 | 申请(专利权)人: | 苏州工业园区纳米产业技术研究院有限公司 |
主分类号: | B81B5/00 | 分类号: | B81B5/00;B81C1/00 |
代理公司: | 苏州谨和知识产权代理事务所(特殊普通合伙)32295 | 代理人: | 唐静芳 |
地址: | 215000 江苏省苏州市苏州工业*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 不等 垂直 梳齿 器件 及其 制备 方法 | ||
1.一种不等高垂直梳齿器件,其特征在于,包括外框架、第一扭转结构、第二扭转结构以及梳齿结构,所述第二扭转结构设置在所述第一扭转结构与梳齿结构之间,所述第一扭转结构与第二扭转结构活动性设置在所述外框架上,所述第一扭转结构的一侧固定连接在所述外框架上,另一侧通过限位结构与所述第二扭转结构连接,所述第二扭转结构的一侧设有与所述梳齿结构相对应的梳齿部,所述梳齿部与所述梳齿结构之间具有高度差。
2.如权利要求1所述的不等高垂直梳齿器件,其特征在于,所述不等高垂直梳齿器件还包括第一扭转梁和第二扭转梁,所述第一扭转梁连接所述第一扭转结构和外框架,所述第二扭转梁连接所述第二扭转结构和外框架。
3.如权利要求1或2所述的不等高垂直梳齿器件,其特征在于,所述限位结构为止挡销结构,所述止挡销结构包括设置在所述第一扭转结构上的第一止挡销结构以及设置在所述第二扭转结构上的第二止挡销结构,所述第一止挡销结构包括第一档销和第一插销,所述第二止挡销结构包括与所述第一档销对应的第二插销以及与所述第一插销对应的第二档销。
4.如权利要求3所述的不等高垂直梳齿器件,其特征在于,所述第一扭转结构包括第一按压板,所述第一按压板设置在所述第一扭转结构的中间,所述第一止挡销结构设置在所述第一按压板的两侧。
5.如权利要求3所述的不等高垂直梳齿器件,其特征在于,所述第二扭转结构包括第二按压板,所述第二按压板设置在所述第二扭转结构的中间,所述第二止挡销结构设置在所述第二按压板的两侧。
6.如权利要求5所述的不等高垂直梳齿器件,其特征在于,所述第二扭转梁设置在所述第二止档销结构和梳齿部之间。
7.如权利要求1所述的不等高垂直梳齿器件,其特征在于,所述梳齿结构包括第一梳齿和梳齿框架,所述第一梳齿设置在所述梳齿框架上,所述梳齿部包括第二梳齿,所述第一梳齿与第二梳齿之间具有高度差。
8.一种制备如权利要求1至7中任一项所述的不等高垂直梳齿器件的方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1、对SOI硅片进行清洗和预处理;
S2、在所述SOI硅片的顶硅层涂光刻胶进行光刻,刻蚀得到梳齿结构层;
S3、再在所述SOI硅片的基底层涂光刻胶进行光刻,刻蚀出背腔,最后腐蚀氧化层并将顶硅层释放,制备得到垂直梳齿器件;
S4、在所述垂直梳齿器件上的按压板处施加外力作用,得到所述不等高垂直梳齿器件。
9.如权利要求8所述的制备方法,其特征在于,步骤S3中,在所述光刻过程中,刻蚀至氧化层,以使所述背腔暴露所述氧化层。
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