[发明专利]一种复合材料及其制备方法、应用有效

专利信息
申请号: 201711478596.6 申请日: 2017-12-29
公开(公告)号: CN109994627B 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 李龙基;曹蔚然 申请(专利权)人: TCL科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H01L51/54;H01L51/56
代理公司: 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 代理人: 李艳丽
地址: 516006 广东省惠州市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 复合材料 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种复合材料,其特征在于,所述复合材料由内核和包覆所述内核的壳层形成,所述内核为BiOI,所述壳层为PMMA;

其中,所述壳层的厚度为1-5nm;

所述复合材料用于量子点发光器件,且所述复合材料设置于蓝光量子点发光层与阴极之间。

2.如权利要求1所述的复合材料,其特征在于,所述BiOI通过偶联剂与所述PMMA结合。

3.如权利要求2所述的复合材料,其特征在于,所述偶联剂为甲基丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷中至少的一种。

4.一种复合材料的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:

提供BiOI,通过偶联剂对BiOI进行表面改性,得到改性BiOI;

将所述改性BiOI分散于极性溶剂中,搅拌均匀后加入甲基丙烯酸甲酯单体进行反应,得到表面结合甲基丙烯酸甲酯单体改性BiOI的混合溶液;

将所述混合溶液进行搅拌加热,并加入引发剂进行聚合反应,使甲基丙烯酸甲酯单体聚合生成PMMA,分离提纯,干燥,得到PMMA包覆BiOI的复合材料;

其中,PMMA层的厚度为1-5nm;

所述复合材料用于量子点发光器件,且所述复合材料设置于蓝光量子点发光层与阴极之间。

5.一种量子点发光器件,其特征在于,所述量子点发光器件包括阳极、蓝光量子点发光层、修饰层、阴极,所述蓝光量子点发光层设置在所述阳极与所述阴极之间,所述修饰层设置在蓝光量子点发光层与阴极之间,所述修饰层由权利要求1-3任一所述的复合材料组成。

6.如权利要求5所述的量子点发光器件,其特征在于,所述量子点发光器件还包括设置在所述阳极与所述蓝光量子点发光层之间的空穴功能层;和/或

设置在所述阴极与所述修饰层之间的电子功能层。

7.如权利要求5或6所述的量子点发光器件,其特征在于,所述修饰层的厚度为1-10nm。

8.一种发光器件的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括如下步骤:

提供预制器件,在预制器件上沉积蓝光量子点发光层;

在所述蓝光量子点发光层上沉积复合材料形成修饰层,所述复合材料为权利要求1-3任一项所述的复合材料或权利要求4所述制备方法制备的复合材料;或者

提供预制器件,在预制器件上沉积复合材料形成修饰层,所述复合材料为权利要求1-3任一项所述的复合材料或权利要求4所述制备方法制备的复合材料;

在所述修饰层上沉积蓝光量子点发光层。

9.如权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述复合材料沉积时溶液的浓度为0.5-8mg/ml。

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