[发明专利]一种聚焦磁场调控装置

权利要求书

1.一种聚焦磁场调控装置，其特征在于：所述的聚焦磁场调控装置包括两对励磁线圈、两对磁场聚焦磁极、两个磁场聚焦线圈和一台控制器(A15)；控制器(A15)分别与两对励磁线圈和两个磁场聚焦线圈相连接；两对所述的励磁线圈分别绕制在两个磁场聚焦磁极上，每一对的两个励磁线圈同轴布置，且两对励磁线圈的中心轴线相互垂直；两对励磁线圈之间的间距大于等于磁纳米颗粒分布区域的直径；两个磁场聚焦线圈的轴线相互垂直，两个磁场聚焦线圈的中心轴线分别与每一对励磁线圈的中心轴线重合；磁场聚焦线圈的直径大于等于磁纳米颗粒分布区域的直径；每对磁场聚焦磁极同轴布置，每对的两个磁场聚焦磁极之间布置有一个磁场聚焦线圈；通入磁场聚焦线圈的电流与平行于轴线放置的励磁线圈的电流方向相同，使得磁场聚焦线圈产生的磁场方向与励磁线圈磁场产生的方向相同，增强目标治疗区域的磁场；

所述的聚焦磁场调控装置的工作过程为：

工作模式1：向第一励磁线圈(A02)、第三励磁线圈(A08)和第二磁场聚焦线圈(A13)通入直流电流，使第一励磁线圈(A02)、第三励磁线圈(A08)和第二磁场聚焦线圈(A13)产生沿中心轴线方向的磁场，即竖轴(A14)方向，其余线圈不加电流；磁纳米颗粒向竖轴(A14)所在直线区域聚集；

工作模式2：向第二励磁线圈(A06)、第四励磁线圈(A10)和第一磁场聚焦线圈(A03)中通入直流电流，使第二励磁线圈(A06)和第四励磁线圈(A10)及第一磁场增强线圈(A03)产生沿横轴(A11)方向的磁场，其余线圈不加电流；磁纳米颗粒向横轴(A11)所在直线区域聚集；

所述的工作模式1和工作模式2交替工作，将使携带药物的磁纳米颗粒向目标治疗区域(A04)聚集，达到治疗目的。

2.如权利要求1所述的聚焦磁场调控装置，其特征在于：两对励磁线圈分别为：第一励磁线圈(A02)和第三励磁线圈(A08)组成的一对励磁线圈，第二励磁线圈(A06)和第四励磁线圈(A10)组成的另一对励磁线圈；第一励磁线圈(A02)绕制于第一磁场聚焦磁极(A01)上，所述的第二励磁线圈(A06)绕制于第二磁场聚焦磁极(A05)上，所述的第三励磁线圈(A08)绕制于第三磁场聚焦磁极(A07)上，所述的第四励磁线圈(A10)绕制于第四磁场聚焦磁极(A12)上。

3.如权利要求1所述的聚焦磁场调控装置，其特征在于：所述的两对磁场聚焦磁极：第一磁场聚焦磁极(A01)、第二磁场聚焦磁极(A05)、第三磁场聚焦磁极(A07)和第四磁场聚焦磁极(A12)是圆台形或棱台形；第一磁场聚焦磁极(A01)与第三磁场聚焦磁极(A07)同轴布置，第一磁场聚焦磁极(A01)和第三磁场聚焦磁极(A07)的磁场聚集磁极横截面小的面朝向轴心，相对布置，第一磁场聚焦磁极(A01)最小的横截面与第三磁场聚焦磁极(A07)磁场聚集磁极最小的横截面相距25-30厘米；所述的第二磁场聚焦磁极(A05)与第四磁场聚焦磁极(A10)同轴布置，第二磁场聚焦磁极(A05)与第四磁场聚焦磁极(A10)横截面小的面朝向轴心，相对布置，第二磁场聚焦磁极(A05)最小的横截面与第四磁场聚焦磁极(A10)最小的横截面相距25-30厘米，且轴线与第一磁场聚焦磁极(A01)与第三磁场聚焦磁极(A07)轴线正交。

4.如权利要求1所述的聚焦磁场调控装置，其特征在于：所述的两个磁场聚焦线圈：第一磁场聚焦线圈(A03)位于第一磁场聚焦磁极(A01)与第三磁场聚焦磁极(A07)之间，第一磁场聚焦线圈(A03)线圈半径为23-24厘米，第一磁场聚焦线圈(A03)外表面距离第一磁场聚焦磁极(A01)最小横截面0.5-1厘米，第一磁场聚焦线圈(A03)外表面距离第三磁场聚焦磁极(A07)最小横截面0.5-1厘米；第二磁场聚焦线圈(A13)位于第二磁场聚焦磁极(A05)与第四磁场聚焦磁极(A12)之间，第二磁场聚焦线圈(A13)线圈半径为23-24厘米，第二磁场聚焦线圈(A13)线圈外表面距离第二磁场聚焦磁极(A05)最小横截面0.5-1厘米，第二磁场聚焦线圈(A13)线圈外表面距离第四磁场聚焦磁极(A12)最小横截面0.5-1厘米；所述的第一励磁线圈(A02)、第二励磁线圈(A06)、第三励磁线圈(A08)、第四励磁线圈(A10)和第一磁场聚焦线圈(A03)、第二磁场聚焦线圈(A13)连接控制器(A15)。