[发明专利]补偿光罩的形变量的方法及装置、曝光机在审
申请号: | 201711469985.2 | 申请日: | 2017-12-29 |
公开(公告)号: | CN107976872A | 公开(公告)日: | 2018-05-01 |
发明(设计)人: | 桂宇畅 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人: | 孙伟峰,武岑飞 |
地址: | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 补偿 形变 方法 装置 曝光 | ||
1.一种补偿光罩的形变量的方法,其特征在于,包括:
步骤一:获取光罩在温度变化量下的光罩形变量;
步骤二:建立所述光罩形变量与所述温度变化量的关系模型;
步骤三:将建立的所述关系模型补入到曝光机的参数模型中,从而所述曝光机在实时监控所述光罩的温度时通过补入到所述参数模型中的所述关系模型预测并补偿所述光罩的形变量。
2.根据权利要求1所述的补偿光罩的形变量的方法,其特征在于,所述光罩形变量包括所述光罩在X方向上形变的X方向光罩形变量以及所述光罩在Y方向上形变的Y方向光罩形变量,所述X方向和所述Y方向垂直。
3.根据权利要求2所述的补偿光罩的形变量的方法,其特征在于,在步骤一中,获取光罩在温度变化量下的光罩形变量的方法包括:
获取在第一温度值下所述光罩在所述X方向上的第一X方向形变量以及所述光罩在所述Y方向上的第一Y方向形变量;
获取在第二温度值下所述光罩在所述X方向上的第二X方向形变量以及所述光罩在所述Y方向上的第二Y方向形变量;
利用所述第二温度值与所述第一温度值的差值的绝对值作为所述温度变化量,且利用所述第二X方向形变量与所述第一X方向形变量的绝对值作为所述X方向光罩形变量,且利用所述第二Y方向形变量与所述第一Y方向形变量的绝对值作为所述Y方向光罩形变量。
4.根据权利要求2或3所述的补偿光罩的形变量的方法,其特征在于,在步骤二中,建立所述光罩形变量与所述温度变化量的关系模型的方法包括:
利用所述X方向光罩形变量和所述温度变化量拟合第一线性关系模型,并判断所述第一线性关系模型的拟合优度是否大于或等于预定拟合优度;
利用所述Y方向光罩形变量和所述温度变化量拟合第二线性关系模型,并判断所述第二线性关系模型的拟合优度是否大于或等于预定拟合优度;
其中,如果是,则进行步骤三;如果否,则返回步骤一。
5.根据权利要求4所述的补偿光罩的形变量的方法,其特征在于,所述预定拟合优度为0.8。
6.一种补偿光罩的形变量的装置,其特征在于,包括:
光罩形变量获取模块,被配置为获取光罩在温度变化量下的光罩形变量;
关系模型建立模块,被配置为建立所述光罩形变量与所述温度变化量的关系模型;
关系模型补入模块,被配置为将建立的所述关系模型补入到曝光机的参数模型中;
其中,所述曝光机在实时监控所述光罩的温度时通过补入到所述参数模型中的所述关系模型预测并补偿所述光罩的形变量。
7.根据权利要求6所述的补偿光罩的形变量的装置,其特征在于,所述光罩形变量包括所述光罩在X方向上形变的X方向光罩形变量以及所述光罩在Y方向上形变的Y方向光罩形变量,所述X方向和所述Y方向垂直。
8.根据权利要求7所述的补偿光罩的形变量的装置,其特征在于,所述光罩形变量获取模块包括:
第一获取单元,被配置为获取在第一温度值下所述光罩在所述X方向上的第一X方向形变量以及所述光罩在所述Y方向上的第一Y方向形变量;
第二获取单元,被配置为获取在第二温度值下所述光罩在所述X方向上的第二X方向形变量以及所述光罩在所述Y方向上的第二Y方向形变量;
确定单元,被配置为将所述第二温度值与所述第一温度值的差值的绝对值确定为所述温度变化量,且将所述第二X方向形变量与所述第一X方向形变量的绝对值确定为所述X方向光罩形变量,且将所述第二Y方向形变量与所述第一Y方向形变量的绝对值确定为所述Y方向光罩形变量。
9.根据权利要求7或8所述的补偿光罩的形变量的装置,其特征在于,所述关系模型建立模块包括:
第一线性拟合单元,被配置为利用所述X方向光罩形变量和所述温度变化量拟合第一线性关系模型,且判断所述第一线性关系模型的拟合优度是否大于或等于预定拟合优度;
第二线性拟合单元,被配置为利用所述Y方向光罩形变量和所述温度变化量拟合第二线性关系模型,且判断所述第二线性关系模型的拟合优度是否大于或等于预定拟合优度;
其中,如果否,则所述光罩形变量获取模块重新获取光罩在温度变化量下的光罩形变量;如果是,则所述关系模型补入模块将建立的所述关系模型补入到曝光机的参数模型中。
10.一种曝光机,其特征在于,包括权利要求1至9任一项所述的补偿光罩的形变量的装置。
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