[发明专利]可饱和吸收体制备方法、可饱和吸收体及光纤激光器有效

专利信息
申请号: 201711462693.6 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN109980495B 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 曾远康;龙慧;邓俊贤;曾龙辉 申请(专利权)人: 香港理工大学
主分类号: H01S3/11 分类号: H01S3/11;H01S3/067
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李昕巍;章侃铱
地址: 中国香港九龙红磡理*** 国省代码: 香港;81
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摘要:
搜索关键词: 饱和 吸收体 制备 方法 光纤 激光器
【权利要求书】:

1.一种可饱和吸收体制备方法,其特征在于,包括:

将块体的三硒化二铟放置于有机溶剂中;

将含有三硒化二铟的有机溶剂放置于超声机中以获取悬浮液;

将所述悬浮液进行离心处理,提取离心处理后的上层液体;

将所述上层液体滴在石英片上烘干,获取三硒化二铟二维纳米石英片;以及

将所述三硒化二铟二维纳米石英片进行抛光以获取可饱和吸收体;

所述有机溶剂包括N-环己基吡咯烷酮溶剂;

所述三硒化二铟在N-环己基吡咯烷酮溶剂的浓度为2mg/ml。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将所述三硒化二铟二维纳米石英片进行抛光以获取可饱和吸收体,包括:

将所述三硒化二铟二维纳米石英片通过端面抛光的方式处理,获取所述可饱和吸收体。

3.一种可饱和吸收体,其特征在于,

所述可饱和吸收体为如权利要求1或2方法制备的可饱和吸收体。

4.一种光纤激光器,其特征在于,包括:

环形激光腔;

所述环形激光腔包括:

可饱和吸收体,所述可饱和吸收体为如权利要求1或2方法制备的可饱和吸收体,所述可饱和吸收体所采用的三硒化二铟二维纳米片大小与厚度分别为200nm和5nm;

波长泵浦源激光;

波分复用器;

光纤;

隔离器;

偏震控制器;

输出耦合器;

光纤过滤器。

5.如权利要求4所述的光纤激光器,其特征在于,所述波长泵浦源激光,包括:

可调脉宽976nm泵浦源激光;和

连续的976nm泵浦源激光。

6.如权利要求4所述的光纤激光器,其特征在于,所述波分复用器,包括:

1060nm波长用波分复用器;和

1550nm波长用波分复用器。

7.如权利要求4所述的光纤激光器,其特征在于,所述光纤,包括:

掺镱光纤;和

掺饵光纤。

8.如权利要求4所述的光纤激光器,其特征在于,所述隔离器、所述偏震控制器、所述输出耦合器,以及所述光纤过滤器均以单模光纤为基本主体。

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