[发明专利]图像处理方法、装置及计算机可读存储介质有效

专利信息
申请号: 201711461074.5 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN108124102B 公开(公告)日: 2020-10-13
发明(设计)人: 王倩;孙佳俊 申请(专利权)人: 北京小米移动软件有限公司
主分类号: H04N5/232 分类号: H04N5/232;G06T5/00;G06T5/50
代理公司: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 代理人: 林锦澜
地址: 100085 北京市海淀区清河*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 图像 处理 方法 装置 计算机 可读 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种图像处理方法,其特征在于,所述方法包括:

对待处理图像进行校正,得到目标图像;

将所述目标图像与所述待处理图像进行比较,以确定所述目标图像相对于所述待处理图像缺失的区域;

获取预存图像,所述预存图像和所述待处理图像是同时针对相同被摄体拍摄得到的两张图像,所述预存图像的尺寸大于所述待处理图像的尺寸,所述预存图像中包括的图像内容多于所述待处理图像中包括的图像内容;

将所述目标图像与所述缺失的区域进行合成,得到合成图像,所述缺失的区域内每个像素点的像素值均相同,且所述每个像素点的像素值均小于第一预设像素值或均大于第二预设像素值;

获取所述合成图像包括的缺失的区域在所述预存图像中对应的目标区域;

基于所述目标区域内的图像内容对所述合成图像包括的缺失的区域内的图像内容进行补充,得到补全后的目标图像,所述补全后的目标图像与所述待处理图像的尺寸和分辨率均相同;

所述对待处理图像进行校正,得到目标图像包括:

确定所述待处理图像的四个顶点,并基于所述四个顶点和用户在所述待处理图像中确定的一条基线,将所述待处理图像映射到与所述待处理图像尺寸大小相等的画布上,以对所述待处理图像进行透视校正得到所述目标图像,所述目标图像中的基线为水平基线或竖直基线;或者,

对所述待处理图像进行二值化得到二值化图像,在所述二值化图像中确定感兴趣区域,并确定所述感兴趣区域的倾斜角度,基于所述倾斜角度对所述待处理图像进行几何校正得到所述目标图像。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将所述目标图像与所述待处理图像进行比较,以确定所述目标图像相对于所述待处理图像缺失的区域,包括:

将所述目标图像与所述待处理图像重叠,所述目标图像的中心点与所述待处理图像的中心点重合,所述目标图像的水平基线与所述待处理图像的水平轴平行,且所述目标图像位于所述待处理图像的上层;

将重叠后所述待处理图像中未被所述目标图像覆盖的区域确定为所述目标图像相对于所述待处理图像缺失的区域。

3.一种图像处理装置,其特征在于,所述装置包括:

校正模块,用于对待处理图像进行校正,得到目标图像;

确定模块,用于将所述目标图像与所述待处理图像进行比较,以确定所述目标图像相对于所述待处理图像缺失的区域;

补充模块,用于对所述缺失的区域内的图像内容进行补充,以得到补全后的目标图像,所述补全后的目标图像与所述待处理图像的尺寸和分辨率均相同;

所述补充模块,包括:

第一获取子模块,用于获取预存图像,所述预存图像和所述待处理图像是同时针对相同被摄体拍摄得到的两张图像,所述预存图像的尺寸大于所述待处理图像的尺寸,所述预存图像中包括的图像内容多于所述待处理图像中包括的图像内容;

第二合成子模块,用于将所述目标图像与所述缺失的区域进行合成,得到合成图像,所述缺失的区域内每个像素点的像素值均相同,且所述每个像素点的像素值均小于第一预设像素值或均大于第二预设像素值;

第二获取子模块,用于获取所述合成图像包括的缺失的区域在所述预存图像中对应的目标区域;

第二补充子模块,用于基于所述目标区域内的图像内容对所述合成图像包括的缺失的区域内的图像内容进行补充,得到补全后的目标图像;

所述校正模块具体用于:

确定所述待处理图像的四个顶点,并基于所述四个顶点和用户在所述待处理图像中确定的一条基线,将所述待处理图像映射到与所述待处理图像尺寸大小相等的画布上,以对所述待处理图像进行透视校正得到所述目标图像,所述目标图像中的基线为水平基线或竖直基线;或者,

对所述待处理图像进行二值化得到二值化图像,在所述二值化图像中确定感兴趣区域,并确定所述感兴趣区域的倾斜角度,基于所述倾斜角度对所述待处理图像进行几何校正得到所述目标图像。

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