[发明专利]一种薄膜沉积装置及沉积方法在审

申请号：	201711458954.7	申请日：	2017-12-28
公开（公告）号：	CN108103450A	公开（公告）日：	2018-06-01
发明（设计）人：	彭寿;马立云;潘锦功;殷新建;蒋猛;钱双	申请（专利权）人：	成都中建材光电材料有限公司
主分类号：	C23C14/26	分类号：	C23C14/26;C23C14/06
代理公司：	成都市集智汇华知识产权代理事务所(普通合伙) 51237	代理人：	李华;温黎娟
地址：	610000 四川省成***	国省代码：	四川;51
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摘要：
搜索关键词：	气体出口第二加热腔第一加热腔薄膜沉积装置气体扩散原料气化盖板喷涂狭缝沉积掺杂气体掺杂元素沉积薄膜沉积装置衬底装置加热原料衬底成膜导出制备薄膜连通出口
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【权利要求书】：

1.一种薄膜沉积装置，用于在衬底上沉积薄膜，其特征在于，所述沉积装置包括用于加热原料的第一加热腔和第二加热腔，所述第一加热腔设有用于将所述第一加热腔内的原料气化后的气体导出的第一气体出口，所述第二加热腔设有用于将所述第二加热腔内的原料气化后的气体导出的第二气体出口，所述第一气体出口和第二气体出口均连通至气体扩散狭缝，所述气体扩散狭缝的出口设置有喷涂盖板，所述喷涂盖板朝向衬底装置。

2.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述第一加热腔和所述第二加热腔外设有保护套。

3.根据权利要求2所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述保护套的材料为耐火材料，所述保护套的底部设置有用于加热衬底的加热元件。

4.根据权利要求3所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述耐火材料为石墨或者氧化铝。

5.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述第一加热腔和所述第二加热腔为管状坩埚，所述管状坩埚内设置有填料隔断。

6.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述第一加热腔和所述第二加热腔各自设有加热装置。

7.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述气体扩散狭缝内嵌有加热元件。

8.根据权利要求1所述的薄膜沉积装置，其特征在于，所述喷涂盖板由石墨制成，并且具有导电加热功能，其表面为多孔状、一字狭缝、“之”字狭缝或者插指狭缝中的任意一种。

9.一种利用权利要求1～8所述的薄膜沉积装置进行薄膜沉积的方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将薄膜原料填装进所述第一加热腔和所述第二加热腔内，所述薄膜原料为粉末状；

(2)薄膜原料在第一加热腔和第二加热腔内被加热形成原料蒸汽，分别从第一气体出口和第二气体出口排出至气体扩散狭缝，其中所述气体扩散狭缝已经被加热到650℃以上；

(3)所述原料蒸汽经过气体扩散狭缝后通过喷涂盖板在衬底上形成薄膜，其中喷涂盖板已经被加热至670℃，衬底被加热至550℃。

10.根据权利要求9所述的薄膜沉积的方法，其特征在于，所述为薄膜原料为粒径200～400目的粉末颗粒。