[发明专利]一种复合涂层刀具及其制备方法有效
申请号: | 201711451155.7 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN108103472B | 公开(公告)日: | 2020-04-14 |
发明(设计)人: | 李翠;张敏捷 | 申请(专利权)人: | 富耐克超硬材料股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/02 | 分类号: | C23C16/02;C23C16/27;C23C14/02;C23C14/06;C23C14/18;C23C14/35;C23C28/00 |
代理公司: | 郑州睿信知识产权代理有限公司 41119 | 代理人: | 胡云飞 |
地址: | 450001 河南省郑*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 复合 涂层 刀具 及其 制备 方法 | ||
1.一种复合涂层刀具,其特征在于:所述复合涂层刀具的制备方法包括以下步骤:
将刀具基体依次进行碱洗、脱钴、种晶籽,然后在刀具基体上沉积金刚石层,得到金刚石涂层刀具;对金刚石涂层刀具的金刚石层依次进行喷砂处理、辉光放电清洗和离子刻蚀;然后在金刚石涂层刀具上沉积钛金属,在远离金刚石涂层刀具的方向上依次形成碳化钛层、钛金属层;最后沉积氮化物形成氮化物层,即得;
所述刀具基体为硬质合金;
所述种晶籽的方法包括以下步骤:将脱钴后的刀具基体放入纳米金刚石悬浮液中进行超声处理,纳米金刚石的粒径为20~60nm;
在金刚石涂层刀具上沉积钛金属采用脉冲磁控溅射法,所述脉冲磁控溅射法是在氩气气氛中,控制温度为500~550℃、偏压电源电压为70~100V、靶材电源脉冲频率为500~1000Hz、靶材电源功率为2000~3000kW,溅射25~35min,靶材为Ti靶材;
沉积氮化物采用脉冲磁控溅射法,所述脉冲磁控溅射法是在氮气和氩气的混合气氛中,控制温度为500~550℃、偏压电源电压为70~100V、靶材电源脉冲频率为500~1000Hz、靶材电源功率为8000~10000kW,溅射2.5~7h。
2.根据权利要求1所述的复合涂层刀具,其特征在于:所述钛金属层的厚度为0.01~0.2μm,碳化钛层的厚度为0.01~0.1μm。
3.根据权利要求1所述的复合涂层刀具,其特征在于:所述氮化物层由氮化物构成;所述氮化物由Ti、Si、Al、Cr、Zr中的至少一种元素与N元素组成。
4.根据权利要求3所述的复合涂层刀具,其特征在于:所述氮化物由Ti、Si、Al和N元素组成;所述氮化物中Ti、Si和Al的原子摩尔比为1~3:0.05~0.3:2~3。
5.根据权利要求1所述的复合涂层刀具,其特征在于:所述氮化物层的厚度为2~6μm;所述金刚石层的厚度为3~15μm。
6.一种如权利要求1所述的复合涂层刀具的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:在金刚石涂层刀具上沉积氮化物形成氮化物层,即得;所述金刚石涂层刀具包括刀具基体和涂覆在刀具基体上的金刚石层;
所述金刚石涂层刀具的制备方法,包括以下步骤:将刀具基体依次进行碱洗、脱钴、种晶籽,然后在刀具基体上沉积金刚石层,即得;所述刀具基体为硬质合金;
在金刚石涂层刀具上沉积氮化物前,先在金刚石涂层刀具上沉积钛金属,在远离金刚石涂层刀具的方向上依次形成碳化钛层、钛金属层;
在金刚石涂层刀具上沉积钛金属前,先对金刚石涂层刀具的金刚石层依次进行喷砂处理、辉光放电清洗和离子刻蚀;
所述种晶籽的方法包括以下步骤:将脱钴后的刀具基体放入纳米金刚石悬浮液中进行超声处理,纳米金刚石的粒径为20~60nm;
在金刚石涂层刀具上沉积钛金属采用脉冲磁控溅射法,所述脉冲磁控溅射法是在氩气气氛中,控制温度为500~550℃、偏压电源电压为70~100V、靶材电源脉冲频率为500~1000Hz、靶材电源功率为2000~3000kW,溅射25~35min,靶材为Ti靶材;
沉积氮化物采用脉冲磁控溅射法,所述脉冲磁控溅射法是在氮气和氩气的混合气氛中,控制温度为500~550℃、偏压电源电压为70~100V、靶材电源脉冲频率为500~1000Hz、靶材电源功率为8000~10000kW,溅射2.5~7h。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的