[发明专利]基于光片结构光的显微层析超分辨率成像方法及系统

权利要求书

1.一种基于光片结构光的显微层析超分辨率成像方法，其特征在于，包括以下步骤：

对光照端的入射光进行空间调制，以生成光片从侧面照明样本；

将所述光照端的光片调制成多个不同频率且不同方向的样式图案，并相应地在探测端拍摄多张图像；以及

根据所述多张图像通过结构光超分辨率方法提高图像分辨率，以得到超分辨率显微层析成像图像；

通过改变扫描函数、DMD调制、声光可调谐滤波器调制、旋转样本等方法，将所述光片调成成不同图案。

2.根据权利要求1所述的基于光片结构光的显微层析超分辨率成像方法，其特征在于，所述对光照端的入射光进行空间调制，进一步包括：

利用柱透镜、贝塞尔(Bessel)光线调制或者栅格(lattice)光线调制方法将所述入射光调制成所述光片，以从侧面照明所述样本的某一深度层。

3.根据权利要求1所述的基于光片结构光的显微层析超分辨率成像方法，其特征在于，通过频域拼接算法、交替投影算法等重构所述样本图像。

4.一种基于光片结构光的显微层析超分辨率成像系统，其特征在于，包括：

第一调制模块，用于对光照端的入射光进行空间调制，以生成光片从侧面照明样本；

第二调制模块，用于将所述光照端的光片调制成多个不同频率且不同方向的样式图案，并相应地在探测端拍摄多张图像；以及

获取模块，用于根据所述多张图像通过结构光超分辨率方法提高图像分辨率，以得到超分辨率显微层析成像图像；

通过改变扫描函数、DMD调制、声光可调谐滤波器调制或者旋转样本，将所述光片调成成不同图案。

5.根据权利要求4所述的基于光片结构光的显微层析超分辨率成像系统，其特征在于，所述第一调制模块，进一步包括：

调制单元，用于利用柱透镜、贝塞尔(Bessel)光线调制或者栅格(lattice)光线调制方法将所述入射光调制成所述光片，以从侧面照明所述样本的某一深度层。

6.根据权利要求4所述的基于光片结构光的显微层析超分辨率成像系统，其特征在于，通过频域拼接算法、交替投影算法等重构所述样本图像。