[发明专利]覆膜支架

权利要求书

1.一种覆膜支架，包括多圈波形环状物，及连接并固定在所述多圈波形环状物上的覆膜，其特征在于，所述覆膜支架沿圆周方向包括至少一个龙骨区，及与所述龙骨区相连的非龙骨区，所述龙骨区的短缩率小于所述非龙骨区的短缩率，且所述龙骨区的短缩率为10％～40％；

当所述覆膜支架为直管形时，所述短缩率的计算方式为：所述覆膜支架在自然状态下沿轴向的长度为r，直径为d1，将所述覆膜支架套在直径为d2的内管上，对所述覆膜支架施加沿轴向的压力F，所述覆膜支架无法再短缩时的总长度为s，所述覆膜支架的短缩率为(r-s)÷r×100％，d2＜d1，1N≤F≤2N；

当所述覆膜支架包括弯曲段时，所述弯曲段具有位于所述弯曲段大弯侧的第一轮廓线和位于所述弯曲段的小弯侧的第二轮廓线，所述弯曲段的短缩率的计算方式为：用垂直于所述覆膜支架轴向的平面将所述弯曲段分割出来，在靠近所述第二轮廓线的覆膜上剪若干个缺口，将所述弯曲段沿所述第一轮廓线拉直后的长度为r，直径为d1，将拉直后的所述弯曲段套在直径为d2的内管上，并对所述覆膜支架施加沿轴向的压力F，所述覆膜支架无法再短缩时所述弯曲段的总长度为s，所述弯曲段的短缩率为(r-s)÷r×100％，d2＜d1，1N≤F≤2N；或者，所述弯曲段的短缩率的计算方式为：将所述波形环状物按所述波形环状物在所述第一轮廓线处的波间距重新沿轴向排布，重新对所述波形环状物进行覆膜，且按所述直管形的覆膜支架的短缩率计算方式计算短缩率。

2.根据权利要求1所述的覆膜支架，其特征在于，每一所述龙骨区在所述覆膜支架上覆盖的圆周角度为15°～45°。

3.根据权利要求2所述的覆膜支架，其特征在于，所述龙骨区包括两个，两个所述龙骨区沿所述覆膜支架的圆周方向对称设置。

4.根据权利要求1所述的覆膜支架，其特征在于，所述波形环状物包括位于所述龙骨区的第一波形分段以及位于所述非龙骨区的第二波形分段，所述第一波形分段的波高大于所述第二波形分段的波高。

5.根据权利要求4所述的覆膜支架，其特征在于，所述第一波形分段的波高为L1，所述第二波形分段的波高为L2，1/3≤L2/L1＜1。

6.根据权利要求5所述的覆膜支架，其特征在于，4mm≤L2≤12mm，8mm≤L1≤18mm。

7.根据权利要求5所述的覆膜支架，其特征在于，相邻所述第一波形分段之间的间距为L3，1/4≤L3/L1≤3/2。

8.根据权利要求7所述的覆膜支架，其特征在于，所述第一波形分段包括第一近端顶点，相邻两圈第一波形分段的所述第一近端顶点之间的连线平行于覆膜支架的轴线。

9.根据权利要求8所述的覆膜支架，其特征在于，所述第一波形分段还包括连接在所述第一近端顶点两侧的第一支撑体，位于所述第一近端顶点一侧的所述第一支撑体沿平行于覆膜支架的轴向分布，位于所述第一近端顶点另一侧的所述第一支撑体相对于覆膜支架的轴线方向倾斜设置。

10.根据权利要求1所述的覆膜支架，其特征在于，还包括位于所述多圈波形环状物一端的至少一圈近端波形环状物，所述近端波形环状物与相邻的波形环状物之间沿轴向的短缩率小于10％。