[发明专利]一种真空溅射设备及其真空大气交换装置

权利要求书

1.一种用于真空溅射设备的真空大气交换装置，其特征在于，

所述真空大气交换装置中装设基板传送轨道，所述真空大气交换装置中设有沿所述基板传送轨道的传送路径而设的用以对所述基板传送轨道上的成膜基板进行快速冷却的冷却装置。

2.如权利要求1所述的用于真空溅射设备的真空大气交换装置，其特征在于，所述冷却装置设置在所述基板传送轨道的中间位置和/或所述基板传送轨道与所述真空大气交换装置的腔室内壁之间的位置上。

3.如权利要求1所述的用于真空溅射设备的真空大气交换装置，其特征在于，所述冷却装置环绕设在所述基板传送轨道的四周位置。

4.如权利要求1-3任一项所述的用于真空溅射设备的真空大气交换装置，其特征在于，所述冷却装置的内部设有用以循环冷却液的密闭管路，所述密闭管路的两端分别设有进液口和出液口。

5.如权利要求4所述的用于真空溅射设备的真空大气交换装置，其特征在于，所述冷却装置为块状结构，其为独立整块或多块拼接而成。

6.如权利要求1-3任一项所述的用于真空溅射设备的真空大气交换装置，其特征在于，所述冷却装置的表面涂覆黑色涂层。

7.如权利要求6所述的用于真空溅射设备的真空大气交换装置，其特征在于，所述黑色涂层为具有红外吸收功能的碳纳米管涂层或具有红外吸收功能的无机半导体涂层。

8.如权利要求1-3任一项所述的用于真空溅射设备的真空大气交换装置，其特征在于，所述冷却装置的表面等均均匀的排布有凸起，所述凸起的表面涂覆黑色涂层。

9.如权利要求8所述的用于真空溅射设备的真空大气交换装置，其特征在于，所述黑色涂层为具有红外吸收功能的碳纳米管涂层或具有红外吸收功能的无机半导体涂层。

10.一种真空溅射设备，其特征在于，包括：进片腔室、与所述进片腔室相连的真空大气交换装置、与所述真空大气交换装置相连的加热腔室以及与所述加热腔室相连的至少一个成膜腔室，所述真空大气交换装置包括如权利要求1-9任一项所述的用于真空溅射设备的真空大气交换装置。