[发明专利]一种品字型位移测量光栅的制作方法在审
| 申请号： | 201711431915.8 | 申请日： | 2017-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN108444389A | 公开（公告）日： | 2018-08-24 |
| 发明（设计）人： | 于宏柱;吕强;李文昊;吉日嘎兰图;刘兆武;巴音贺希格;唐玉国;齐向东 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02;G02B5/18 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 赵勍毅 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光栅 主测量 位移测量 品字型 测量 拼接机构 拼接间隙 制作 光栅矢量方向 位移测量系统 拼接固定 首尾拼接 衍射光栅 长行程 接缝处 量程 预设 | ||
1.一种品字型位移测量光栅的制作方法，其特征在于，所述方法包括：
获取至少两个主测量光栅及一块副测量光栅，所述两个主测量光栅沿光栅矢量方向首尾拼接，所述副测量光栅固定在所述两个主测量光栅的接缝处，所述主测量光栅及所述副测量光栅共面且呈品字型分布；
将所述至少两个主测量光栅及一块副测量光栅放置于拼接机构；
调整所述主测量光栅及所述副测量光栅在所述拼接机构上的位置使得拼接间隙符合预设范围进行拼接固定得到品字型位移测量光栅，所述拼接间隙为所述主测量光栅及所述副测量光栅之间距离。
2.根据权利要求1所述的品字型位移测量光栅的制作方法，其特征在于，所述拼接机构设置在基准平台上，所述基准平台和所述拼接机构之间设有第一锁紧螺钉，所述拼接机构上设有转接块和第二锁紧螺钉，所述主测量光栅和所述副测量光栅安装在所述转接块上，所述调整所述主测量光栅及所述副测量光栅在所述拼接机构上的位置使得拼接间隙符合预设范围进行拼接固定得到品字型位移测量光栅，包括：
调整所述主测量光栅及所述副测量光栅在所述拼接机构上的位置；
当拼接间隙符合预设范围利用所述第一锁紧螺钉将所述拼接机构和所述基准平台之间锁紧固定；
利用所述第二锁紧螺钉将所述主测量光栅及所述副测量光栅锁紧在所述拼接机构上拼接固定得到品字型位移测量光栅。
3.根据权利要求1所述的品字型位移测量光栅的制作方法，其特征在于，所述拼接机构设置在基准平台上，所述调整所述主测量光栅及所述副测量光栅在所述拼接机构上的位置使得拼接间隙符合预设范围进行拼接固定得到品字型位移测量光栅，包括：
调整所述主测量光栅及所述副测量光栅在所述拼接机构上的位置；
当拼接间隙符合预设范围将所述拼接机构和所述基准平台之间粘接固定；
将所述主测量光栅及所述副测量光栅与所述拼接机构之间进行粘接固定。
4.根据权利要求1所述的品字型位移测量光栅的制作方法，其特征在于，所述获取至少两个主测量光栅及一块副测量光栅之前，包括：
采用机械刻划法、全息离子束刻蚀或微电子光刻法制所述主测量光栅及所述副测量光栅。
5.根据权利要求1所述的品字型位移测量光栅的制作方法，其特征在于，所述副测量光栅固定在所述两个主测量光栅的接缝处，包括：
所述副测量光栅与所述接缝处垂直且所述接缝处与所述副测量光栅的中间区域对应。
6.根据权利要求1所述的品字型位移测量光栅的制作方法，其特征在于，
所述主测量光栅与所述副测量光栅宽度相同。
7.根据权利要求1所述的品字型位移测量光栅的制作方法，其特征在于，所述主测量光栅的光栅刻线与所述副测量光栅的光栅刻线对正。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711431915.8/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
