[发明专利]一种激光介质和激光器在审
| 申请号: | 201711426558.6 | 申请日: | 2017-12-25 |
| 公开(公告)号: | CN109962402A | 公开(公告)日: | 2019-07-02 |
| 发明(设计)人: | 王彩丽;谢仕永;许阳蕾;刘辉;史小玄 | 申请(专利权)人: | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 |
| 主分类号: | H01S3/16 | 分类号: | H01S3/16 |
| 代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址: | 100024*** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 激光介质 介质膜 泵浦端面 激光器 泵浦源 透过率 振荡光 钇铝石榴石 寄生振荡 稀土元素 泵浦光 反射率 掺杂 陶瓷 | ||
本发明是关于一种激光介质和激光器,其中,所述的激光介质包括激光介质主体和介质膜,所述的激光介质主体为掺杂有稀土元素的钇铝石榴石陶瓷,定义靠近泵浦源的一面为所述的激光介质主体的泵浦端面,远离泵浦源的一面为所述的激光介质主体的非泵浦端面,所述的泵浦端面镀有第一介质膜,所述的第一介质膜对泵浦光的透过率≥90%,对振荡光的反射率≥99%,所述的非泵浦端面镀有第二介质膜,所述的第二介质膜对振荡光的透过率≥90%。采用本发明提供的激光介质,可以很好的抑制寄生振荡。
技术领域
本发明涉及全固态激光器领域,尤其涉及激光二极管端面泵浦脉冲运转固体激光器。
背景技术
高能量调Q激光器单脉冲能量高、峰值功率高、脉冲宽度窄,具有连续运转的激光器不可比拟的优势,在激光指示、激光雷达及激光测距等领域有着广泛的应用。
当激光器在高泵浦功率运转情况下,从工作介质的侧壁反射回来的光在通过工作介质时,会产生激光震荡,被称为寄生振荡。在高能量固体激光器系统中,由于注入能量很高,容易产生较强的寄生振荡,寄生振荡的存在使得激光放大器在信号光到达之前消耗了大量的反转粒子数,降低了晶体的峰值增益和存取效率,在激光震荡器中寄生振荡使得增益介质内储能降低,提高了激光的输出阈值,限制了激光单脉冲的提高,寄生振荡是影响激光器性能的重要因素,因此对寄生振荡的消除有着重要的意义。
目前,抑制端面泵浦调Q激光器寄生振荡的方法主要有:在激光介质的两个泵浦端面之间形成微小角度,并在介质的端面间镀高透膜来抑制激光介质的端面间产生的振荡;对激光介质的非通光表面进行打毛处理,或在非通光表面雕刻成螺纹,或做成锥形,破坏寄生振荡。这种方法可以在一定程度上破坏回路的形成,抑制能力有限。对于高能量激光器,散射光也可以形成较为强烈的寄生振荡,从而限制激光脉冲能量的提高;采用包边玻璃对激光介质进行包边来降低激光介质的菲涅尔反射率,提高寄生振荡的阈值,抑制寄生振荡,从而克服寄生振荡效应,由于包边玻璃的折射率有限,随着波长发生变化,该方法也受到了限制;采用掺杂浓度低的激光介质,降低其吸收系数,从而减小激光介质的横向增益,该方法可以有效的抑制寄生振荡,但同时也在降低了激光器的单脉冲输出能量和效率。
发明内容
本发明的主要目的在于,提供一种激光介质和激光器,所要解决的技术问题是,采用,采用渐变掺杂的激光介质,降低激光介质泵浦端面的掺杂浓度,在泵浦端面降低其对泵浦光的吸收系数,从而减小介质的横向增益。该方法不仅有好的对寄生振荡的抑制效果,并且提高了激光介质对泵浦光的吸收效率,该方法简单,适用范围广。
本发明的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。
依据本发明提出的一种激光介质,包括,激光介质主体和介质膜,所述的激光介质主体为掺杂有稀土元素的钇铝石榴石陶瓷,定义靠近泵浦源的一面为所述的激光介质主体的泵浦端面,远离泵浦源的一面为所述的激光介质主体的非泵浦端面,所述的泵浦端面镀有第一介质膜,所述的第一介质膜对泵浦光的透过率≥90%,对振荡光的反射率≥99%,所述的非泵浦端面镀有第二介质膜,所述的第二介质膜对振荡光的透过率≥90%。
本发明的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
优选的,前述的一种激光介质,从泵浦端面至非泵浦端面,所述的激光介质主体中的稀土元素的浓度逐渐提高。
优选的,前述的一种激光介质,以摩尔百分比计,所述的泵浦端面稀土元素的浓度大于或等于0.1%,且,所述的非泵浦端面稀土元素的浓度小于或等于1%。
优选的,前述的一种激光介质,其中所述的稀土元素为钕。
优选的,前述的一种激光介质,将除去泵浦端面和非泵浦端面的激光介质主体的表面定义为非通光面,对所述的非通光面进行打毛处理;或者,所述的非通光面雕刻有螺纹。
优选的,前述的一种激光介质,其中所述的激光介质的形状为两端粗中间细的异形棒状。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国建筑材料科学研究总院有限公司,未经中国建筑材料科学研究总院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711426558.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:单纵模染料激光器扫频装置及控制方法
- 下一篇:TO光源封装装置





