[发明专利]一种量子点膜层结构的制作方法

权利要求书

1.一种量子点膜层结构的制作方法，具体步骤为：基板清洗、烘干、刻槽或孔、在沟槽或孔内灌QD粉、沉积功能膜（防水隔绝空气薄膜），形成QD膜。

2.根据权利要求1所述的一种量子点膜层结构的制作方法，其特征在于所述的基板为蓝宝石、玻璃、PET、亚克力透明材料。

3.根据权利要求1所述的一种量子点膜层结构的制作方法，其特征在于灌注的QD除了以粉末形式，还可以为QD粉分散于油墨中或者光敏胶中的形式。

4.根据权利要求1所述的一种量子点膜层结构的制作方法，其特征在于所述的防水隔绝空气功能膜层可为聚氨酯、环氧树脂、有机硅树脂、派瑞林等单层或多层复合膜结构。

5.根据权利要求1所述的一种量子点膜层结构的制作方法，其特征在于根据结构需要，功能膜层为单面镀或双面镀。

6.根据权利要求1所述的一种量子点膜层结构的制作方法，其特征在于所述的沟槽用机械、激光或黄光刻蚀方式制成。

7.根据权利要求1所述的一种量子点膜层结构的制作方法，其特征在于所述的刻蚀沟槽步骤用围坝胶代替。