[发明专利]微分相位对比显微系统与方法

权利要求书

1.一种微分相位对比显微系统，其特征在于，包括：

一光源，用以产生一入射光场；

一光强度调制模块，用以根据控制信号产生沿一第一轴向光强度逐渐减少的第一梯度屏蔽、沿该第一轴向光强度逐渐增加的第二梯度屏蔽、沿一第二轴向光强度逐渐减少的第三梯度屏蔽以及沿该第二轴向光强度逐渐增加的第四梯度屏蔽其中之一，以将该入射光场调制成具有一强度梯度分布的侦测光场；

一聚光透镜，设置于该光强度调制模块的一侧，使得该光强度调制模块位于该聚光透镜的傅立叶平面上，该聚光透镜用以接收该侦测光场，并产生一离轴光场投射至一待测物上，进而产生一测物光场；

一物镜，设置于该聚光透镜的一侧，使该待测物位于该物镜的焦距上，该物镜接收该测物光场；以及

一影像撷取模块，与该物镜耦接，用以接收该测物光场，其中，通过控制该聚光透镜与该物镜的数值孔径，从而产生相应该强度梯度分布的一局部同调照明的光学影像。

2.如权利要求1所述的微分相位对比显微系统，其特征在于，该光强度调制模块为一控制光穿透强度的液晶模块或者光反射式液晶模块。

3.如权利要求1所述的微分相位对比显微系统，其特征在于，该聚光透镜具有一第一数值孔径值，该物镜具有一第二数值孔径值，该第一数值孔径值与该第二数值孔径值均为1。

4.如权利要求1所述的微分相位对比显微系统，其特征在于，更包括有一运算处理单元，用以产生控制信号使该光强度调制模块选择沿一第一轴向光强度逐渐减少的第一梯度屏蔽、沿该第一轴向光强度逐渐增加的第二梯度屏蔽、沿一第二轴向光强度逐渐减少的第三梯度屏蔽以及沿该第二轴向光强度逐渐增加的第四梯度屏蔽其中之一，该运算处理单元更接收关于该第一梯度屏蔽、该第二梯度屏蔽、该第三梯度屏蔽以及该第四梯度屏蔽的第一光学影像、第二光学影像、第三光学影像以及第四光学影像，以进行演算以得到该待测物上每一个侦测位置的相位，进而重建该待测物的表面形貌。

5.一种微分相位对比显微影像撷取方法，其特征在于，包括下列步骤：

使一光源产生一入射光场；

提供一光强度调制模块，用以根据控制信号将该入射光场调制成具有一强度梯度分布的侦测光场；

提供一聚光透镜，设置于该光强度调制模块的一侧，使得该光强度调制模块位于该聚光透镜的傅立叶平面上，该聚光透镜用以接收该侦测光场，并产生一离轴光场投射至一待测物上，进而产生一测物光场；

提供一物镜，设置于该聚光透镜的一侧，使该待测物位于该物镜的焦距上，该物镜接收该测物光场；

提供一影像撷取模块与该物镜耦接，用以产生对应该侦测光场的光学影像，其中，该影像撷取模块通过控制该聚光透镜与该物镜的数值孔径，从而产生相应该强度梯度分布的一局部同调照明的光学影像；

控制该光强度调制模块，使其产生沿一第一轴向光强度逐渐减少的第一梯度屏蔽、沿该第一轴向光强度逐渐增加的第二梯度屏蔽、沿一第二轴向光强度逐渐减少的第三梯度屏蔽以及沿该第二轴向光强度逐渐增加的第四梯度屏蔽；以及

使该影像撷取模块经由该物镜撷取对应该第一梯度屏蔽的第一光学影像、对应该第二梯度屏蔽的第二光学影像、对应该第三梯度屏蔽的第三光学影像以及对应该第四梯度屏蔽的第四光学影像。

6.如权利要求5所述的微分相位对比显微影像撷取方法，其特征在于，该光强度调制模块为一控制光穿透强度的液晶模块或者光反射式液晶模块。

7.如权利要求5所述的微分相位对比显微影像撷取方法，其特征在于，该聚光透镜具有一第一数值孔径值，该物镜具有一第二数值孔径值，该第一数值孔径值与该第二数值孔径值均为1。

8.如权利要求5所述的微分相位对比显微影像撷取方法，其特征在于，更包括有下列步骤：

利用一运算处理单元接收该第一光学影像、该第二光学影像、该第三光学影像以及该第四光学影像，并进行演算以得到该待测物上每一个侦测位置的相位，进而重建该待测物的表面形貌。