[发明专利]基于表面等离子体的量子点随机激光器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201711399400.4 申请日: 2017-12-21
公开(公告)号: CN108123357B 公开(公告)日: 2019-07-12
发明(设计)人: 叶莉华;赵庆;程志祥;徐淑宏;崔一平 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01S3/10 分类号: H01S3/10
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 徐莹
地址: 211189 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 金属纳米粒子 量子点 玻璃基板 间隔层 表面等离子体共振 表面等离子体 随机激光器 随机激光 出射 光谱 透明高分子聚合物 共振吸收谱 间隔层材料 辐射效率 激发效率 耦合 泵浦光 微米级 荧光 沉积 红移 贴合 制备 猝灭
【说明书】:

发明提供了一种基于表面等离子体的量子点随机激光器,包括顺序层叠的第一玻璃基板、间隔层和第二玻璃基板,所述第一玻璃基板在与间隔层贴合的表面上设有微米级凹槽供量子点沉积,所述间隔层中含有固定在第二玻璃基板上的金属纳米粒子,控制金属纳米粒子与量子点之间的距离。本发明金属纳米粒子的表面等离子体共振效应增强泵浦光的激发效率和随机激光的辐射效率,同时间隔层有效避免了量子点与金属纳米粒子接触而产生的荧光猝灭现象,并且由于间隔层材料透明高分子聚合物,可以使金属纳米粒子的共振吸收谱发生红移,实现表面等离子体共振带和激励光谱与出射光谱的耦合,从而得到低阈值、高强度的稳定随机激光出射。

技术领域

本发明涉及一种激光器,具体涉及一种随机激光器及其制备方法。

背景技术

近年来,随机激光已经成为国际激光学界的热门研究领域。随机激光在产生机理及发光特性上与传统激光器存在许多显著的不同,随机激光辐射源自激活无序介质,通过辐射光在介质中的多次散射提供光学反馈,从而获得较大的增益,无需外加谐振腔。受益于量子限域效应,胶体量子点(CQD)作为激光材料具有一些不可替代的优点,即宽的激发光谱、发射波长可调谐、高量子产率、良好的色纯度和温度不敏感的激光性能。量子点随机激光器由于量子点材料本身可以发挥增益介质的作用,而作为增益介质,另一方面量子点相比周围的介质具有更高的折射率,可以同时作为散射介质。相比于使用染料的随机激光器,量子点随机激光器无需外加散射介质,具有成本低、制备工艺简单等特点。

表面等离子体共振是一种在金属纳米粒子表面的非辐射局域模式,它指的是金属纳米粒子表面的自由电子在与电磁波相互作用时费米能级导带上的自由电子在电磁场的驱动下产生共振,在这种相互作用下,当入射电磁波的频率与自由电子的固有频率接近时会发生表面等离子共振吸收,在纳米粒子周围产生很强的局域电场。由于金属纳米粒子的这种特性,使得其可以被用于增强随机激光上。表面等离子体共振效应可以使泵浦光的激发效率和随机激光的辐射效率得到提高,从而得到低阈值、高强度的随机激光出射。

现有技术中,文献“Adv.Optical Mater.2016,10,1002”中将量子点与金属纳米粒子直接混合,从而得到低阈值的随机激光出射。但这种量子点与金属纳米粒子接触的方法不可避免的会出现荧光猝灭现象,使得随机激光的出射效率降低。

发明内容

发明目的:本发明的目的在于针对现有技术的不足,提供一种基于表面等离子体的量子点随机激光器及其制备方法,使用间隔层使金属纳米粒子的共振吸收谱发生红移,实现表面等离子体共振带和激励光谱与量子点出射光谱的耦合,同时避免金属纳米粒子与量子点接触而产生的荧光猝灭现象,并进一步降低阈值。

技术方案:本发明提供了一种基于表面等离子体的量子点随机激光器,包括顺序层叠的第一玻璃基板、间隔层和第二玻璃基板,所述第一玻璃基板在与间隔层贴合的表面上设有微米级凹槽供量子点沉积,所述间隔层中含有固定在第二玻璃基板上的金属纳米粒子,控制金属纳米粒子与量子点之间的距离。

进一步,各个微米级凹槽之间相互平行。

进一步,所述微米级凹槽的宽度为40μm-120μm,深度为30μm-60μm。

进一步,所述间隔层采用透明高分子聚合物。

进一步,所述间隔层的厚度为15nm-70nm。

一种基于表面等离子体的量子点随机激光器的制备方法,包括以下步骤:

(1)在第一玻璃基板上刻蚀出微米级凹槽,将量子点通过旋涂的方式沉积在凹槽中,旋涂速度为200rpm/120s-400rpm/120s;

(2)第二玻璃基板用APTMS硅烷化2h-4h,漂洗、烘干后将其浸入金属纳米粒子胶体悬浮液中1h-4h,之后取出烘干;

(3)将间隔层的材料旋涂第二玻璃基板的金属纳米粒子上,旋涂速度为2000rpm-5000rpm;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东南大学,未经东南大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711399400.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top