[发明专利]一种图形化透明导电薄膜的消影方法

说明书

本发明公开了一种图形化透明导电薄膜的消影方法，包括：导电区图案设计步骤、导电区制作步骤、绝缘区图案设计步骤、消影填充液制备步骤和绝缘区制作步骤。本发明所提供的图形化透明导电薄膜的消影方法，首先在基板上形成图形化的导电区，然后依据导电区的图案反向设计出绝缘区图案，并且依据导电区的光学折射率和色坐标设计制作消影填充液，再把消影填充液在绝缘区上印刷或套印绝缘区图案，从而使得导电膜上的绝缘区与导电区的光学折射率和色坐标相近，组合形成一致的带触控功能的透明导电膜，从而达到低成本、高效率的消影目的。

技术领域

本发明涉及导电膜技术领域，尤其涉及一种图形化透明导电薄膜的消影方法。

背景技术

随着物质水平的日益提高，消费者对电子产品的要求正往轻薄化和柔性化、可视化、触控化的方面快速发展。目前全世界触摸屏及相关产业链正以极快的速度融入到人们的日常生活中。透明导电膜具有良好的导电性，在可见光波段具有高透光率。在触屏膜等大多实际运用中，需要对透明导电膜进行图形化，即根据图形设计在基片表面形成固定的导电区域和绝缘区域。

目前透明导电材料仍以ITO(氧化铟锡)为主流，ITO之替代材料有纳米银线、石墨烯、导电高分子、碳纳米管等。围绕ITO替代材料的新型透明导电膜在实际应用的比例越来越高，但是在小尺寸类诸如手机、平板电脑等高端应用尚未普及。

电容式触摸屏的透明电极区需要图形化，而透明电极区与绝缘区的色度、折射率存在明显差异，且随着透明电极区相互之间间隙的增大，可见性更强。此结果会导致用于小尺寸触控时，在强光下近距离观视会有较大的视觉反差，即非一致性，进而影响消费者的体验。原有ITO透明导电膜采用减小线距，蒸镀氧化物的方法，使透明导电部位与非导电区域折射率一致的方法来达到消影效果。但由于材料的差异，纳米银线本身呈现极其轻微的淡黄色，且纳米银线本身存在雾度，在强光照射下肉眼可见，使得ITO透明导电膜的消影方法在纳米银线透明导电膜中无法得到消影效果。

中国专利ZL 2013101521730中采用光刻胶保护导电区、涂布填充液非导电区、蚀刻液去除光刻胶的方法达到消影目的。其工艺繁琐、效率低、成本高昂、环境污染大，难以应用在批量化生产过程中。

因此，开发基于纳米银线透明导电膜的快速、低成本消影方法，对于新材料应用的推广，推动新型透明导电膜用于手机、平板等中小尺寸触摸屏的市场化应用具有很大的意义。

发明内容

为了克服现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种图形化透明导电薄膜的消影方法，导电膜上绝缘区与导电区的光学折射率、色坐标相近，组合形成一致的带触控功能的透明导电膜，从而产生消影作用，感官效果好。

本发明的目的采用如下技术方案实现：

一种图形化透明导电薄膜的消影方法，包括：

导电区图案设计步骤：设计导电区图案；

导电区制作步骤：利用导电印刷液在基板上制作所述导电区图案，干燥固化后形成导电区；所述基板上除了所述导电区外的区域记为绝缘区；

绝缘区图案设计步骤：依据所述导电区上形成的所述导电区图案，反向设计出绝缘区图案；

消影填充液制备步骤：测试所述导电区的折射率和色坐标，配制消影填充液，所述消影填充液的折射率和色坐标与所述导电区的折射率和色坐标匹配；

绝缘区制作步骤：依据所述绝缘区图案，将所述消影填充液印刷或套印于所述绝缘区上，干燥固化后即成。

进一步地，在所述导电区制作步骤中，利用减成法或加成法制作所述导电区图案；在所述绝缘区制作步骤中，通过凹版印刷、胶版印刷、丝网印刷、柔版印刷或喷墨打印的方式制作所述绝缘区图案。