[发明专利]一种用于可发生氢气的水素面膜的氢气发生粉在审
| 申请号： | 201711391568.0 | 申请日： | 2017-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN107875029A | 公开（公告）日： | 2018-04-06 |
| 发明（设计）人： | 宫地浩;蔡宇林 | 申请（专利权）人： | 广州弘皓电子科技有限公司 |
| 主分类号： | A61K8/19 | 分类号： | A61K8/19;A61K8/02;A61Q19/08 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司44202 | 代理人： | 宋静娜,郝传鑫 |
| 地址： | 510070 广东省广州市黄埔*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 用于 发生 氢气 面膜 生粉 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于可发生氢气的水素面膜的氢气发生粉，其中，所述氢气发生粉包括：
缓冲剂，所述缓冲剂的质量分数为30％－60％；
产氢剂，所述产氢剂的质量分数为3％－20％；
pH调节剂，所述pH调节剂的质量分数为5％－25％。
2.如权利要求1所述的氢气发生粉，其中，所述氢气发生粉进一步包括硫酸镁，所述硫酸镁质量分数为20％－40％。
3.如权利要求2所述的氢气发生粉，其中，所述氢气发生粉进一步包括碳酸氢钠，所述碳酸氢钠质量分数为10％－20％。
4.如权利要求3所述的氢气发生粉，其中，所述缓冲剂的质量分数为35％－45％。
5.如权利要求3所述的氢气发生粉，其中，所述产氢剂的质量分数为4％－8％。
6.如权利要求3所述的氢气发生粉，其中，所述pH调节剂的质量分数为7％－12％。
7.如权利要求1所述的氢气发生粉，其中，所述缓冲剂为二氧化硅。
8.如权利要求1所述的氢气发生粉，其中，所述产氢剂为二氢化镁。
9.如权利要求1所述的氢气发生粉，其中，所述pH调节剂为柠檬酸。
10.一种水素面膜，其中，所述水素面膜包括权利要求1－9之一所述的氢气发生粉。
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