[发明专利]一种利用振荡压力烧结法制备氮化硅陶瓷的工艺

权利要求书

1.一种利用振荡压力烧结法制备氮化硅陶瓷的工艺，其特征在于，包括有以下工艺步骤，具体的：

a、将氮化硅混合粉体装入至烧结炉内的石墨模具内，石墨模具通过填装孔填装氮化硅混合粉体，石墨模具的填装孔为圆形孔且填装孔的内径值为30mm；其中，氮化硅混合粉体包括有以下重量份的物料：氮化硅粉体85%-90%、烧结助剂10%-15%，烧结助剂包括有氧化铝粉体、氧化钇粉体；

b、待氮化硅混合粉体填装完毕后，关闭烧结炉的炉盖，而后通过真空泵先对烧结炉的内腔进行抽真空处理，抽真空完毕后往烧结炉的内腔充入保护气体；

c、通过压头对氮化硅混合粉体施加为恒定压力的预压力，预压力的压力值为30MPa，同时启动烧结炉的加热装置进行加热，缓慢升温且升温速率100℃/h；

d、当烧结炉内腔的温度值达到1780℃时，在保持压头对氮化硅混合粉体的压力为30MPa的情况下，对压头施加振荡压力，该振荡压力与上述30MPa耦合并共同作用于氮化硅混合粉体，耦合后的振荡压力变化范围为27.5MPa-32.5MPa；在施加振荡压力的过程中，进行保温且保温时间为60min；

e、待保温结束后，烧结炉内腔开始以200℃/min的降温速率进行降温，直至降温到900℃，同时缓慢卸去压头对氮化硅陶瓷的压力；

f、当烧结炉的内腔降温至900℃时，将氮化硅陶瓷保持与烧结炉的内腔并随炉自然冷却到室温。

2.根据权利要求1所述的一种利用振荡压力烧结法制备氮化硅陶瓷的工艺，其特征在于：所述保护气体为高纯氮气。

3.根据权利要求1所述的一种利用振荡压力烧结法制备氮化硅陶瓷的工艺，其特征在于：所述氮化硅混合粉体包括有以下重量份的物料：氮化硅粉体86.19%、氧化铝粉体3.07%、氧化钇粉体8.34%。

4.根据权利要求1所述的一种利用振荡压力烧结法制备氮化硅陶瓷的工艺，其特征在于：于所述氮化硅混合粉体中，所述氮化硅粉体的平均粒径为2.0μm。