[发明专利]一种钙钛矿/n型晶体硅叠层太阳电池及其制造方法在审
申请号: | 201711389578.0 | 申请日: | 2017-12-21 |
公开(公告)号: | CN108123046A | 公开(公告)日: | 2018-06-05 |
发明(设计)人: | 李平;邱羽;颜峰坡;范宝殿;江琳沁;严琼;林灵燕 | 申请(专利权)人: | 福建江夏学院 |
主分类号: | H01L51/42 | 分类号: | H01L51/42;H01L51/44;H01L51/48 |
代理公司: | 福州市鼓楼区京华专利事务所(普通合伙) 35212 | 代理人: | 宋连梅 |
地址: | 350000 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 钙钛矿 叠层太阳电池 前表面 大规模工业化生产 叠层电池结构 电池结构 光学损失 前表面场 依次层叠 有效控制 制备工艺 背电极 底电池 顶电池 钝化层 发射极 减反射 内反射 硅片 基底 减小 双结 制备 制造 电池 保留 制作 | ||
1.一种钙钛矿/n型晶体硅叠层太阳电池,其特征在于:采用双结叠层电池结构,底电池为n型晶体硅太阳电池,顶电池为钙钛矿太阳电池;所述n型晶体硅太阳电池为背结结构,包括从下到上依次层叠的背电极、p+发射极,n型晶体硅基底,n+前表面场以及前表面钝化层;所述钙钛矿太阳电池制备在n型晶体硅太阳电池的前表面上。
2.根据权利要求1所述的一种钙钛矿/n型晶体硅叠层太阳电池,其特征在于:所述的n型晶体硅太阳电池,在其前表面覆盖有n型掺杂层,利用钝化薄膜对前表面进行钝化,使所述n型掺杂层外覆盖钝化层;背表面单面制绒,通过在背表面丝网印刷铝浆料烧结形成Al-p+发射极以及背电极。
3.根据权利要求1所述的一种钙钛矿/n型晶体硅叠层太阳电池,其特征在于:所述的钙钛矿太阳电池包括从下到上依次层叠的透明导电薄膜、NiO空穴传输层、钙钛矿吸光层、缓冲层、电子传输层、透明导电薄膜以及顶电极。
4.根据权利要求1所述太阳电池,其特征在于:所述n型晶体硅为单晶硅片,或多晶硅片。
5.根据权利要求2所述太阳电池,其特征在于:所述的钝化薄膜包括SiO2、TiO2薄膜,薄膜厚度小于2nm。
6.根据权利要求3所述太阳电池,其特征在于:所述透明导电薄膜为ITO薄膜,厚度为10-20nm之间。
7.根据权利要求3所述太阳电池,其特征在于:所述NiO空穴传输层的厚度在30-50nm之间,透光率超过80%。
8.根据权利要求3所述太阳电池,其特征在于:所述缓冲层为LiF薄膜,厚度小于2nm。
9.根据权利要求3所述太阳电池,其特征在于:所述电子传输层的材料选自ZnO、TiO2和富勒烯,当材料为两种以上,所述电子传输层为叠层薄膜。
10.根据权利要求3所述太阳电池,其特征在于:所述顶电极包括金属电极、碳电极。
11.一种钙钛矿/n型晶体硅叠层太阳电池的制造方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)清洗硅片,双面抛光硅片;
(2)硅片正面磷扩散形成n+区;
(3)硅片背表面单面制绒;
(4)在硅片背表面丝网印刷铝浆并在保护气下烧结,形成p+发射极;
(5)在硅片前表面覆盖n型掺杂层,并在所述n型掺杂层外制备钝化层,得到n型晶体硅太阳电池;
(6)在n型晶体硅太阳电池前表面制备一层厚度为10-20nm的ITO透明导电薄膜;
(7)在ITO透明导电薄膜上制备一层厚度为30-50nm的NiO空穴传输层;
(8)在NiO空穴传输层上制备钙钛矿吸光层,钙钛矿吸光层的厚度为0.1-100μm;
(9)在钙钛矿吸光层上制备一层厚度小于2nm的缓冲层;
(10)在缓冲层上制备电子传输层,电子传输层厚度为50-800nm;
(11)在电子传输层上制备厚度为90-110nm的ITO透明导电薄膜,并在其上设置顶电极。
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