[发明专利]一种片盒内污染物含量的检测方法在审

专利信息
申请号: 201711389344.6 申请日: 2017-12-21
公开(公告)号: CN108020542A 公开(公告)日: 2018-05-11
发明(设计)人: 王锡铭;张俊宝;陈猛 申请(专利权)人: 重庆超硅半导体有限公司
主分类号: G01N21/73 分类号: G01N21/73;G01N1/28
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 400714 重庆市北碚区*** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 一种 片盒内 污染物 含量 检测 方法
【权利要求书】:

1.一种集成电路用硅片片盒中污染物的测试方法,其特征在于,包括以下步骤:

首先选取两个相同条件下的片盒,进行检测,分别记为测试片盒a和预检片盒b,然后对预检片盒b进行预检来确定污染物α的种类,根据所确定的污染物α的种类、性质选择测试仪器并配置提取液,然后对测试片盒a进行污染物α进行提取;最后利用所选测试仪器对污染物α进行检测,得出精确的测试结果。

2.根据权利要求1所述的片盒,其特征在于,所指的片盒包括两种,一种是生产过程中的送样盒,另一种是出货时的包装用片盒。

3.根据权利要求1所述的预检,其特征在于,使用浓度0.45%-0.55%浓度的HNO3溶液500ml对污染物α进行提取,然后进行ICP-MS测试以确定其中含有的金属元素的种类;当进行阴离子监测时,则无需进行预检。

4.根据权利要求1、4结合所示的提取液配制,其特征在于,提取液主要分为以下三种溶液:

①:当进行阴离子检测时,为了不引入干扰离子(酸根离子),提取液选择成分为去离子水(UPW),总体积为500ml±5ml,使用离子色谱仪(以下简称IC)进行检测;

②:当进行污染金属元素检测时,为了保障较高的提取能力,并且不引入杂质,可选用HNO3+H2O2+UPW的混合溶液作为提取液,HNO3的浓度为0.6%-0.8%,H2O2的浓度为0.3%-0.4%;HNO3:H2O2浓度比约2:1,溶液总体积为1000ml±10ml,使用ICP-MS进行检测,此提取液记为提取液a;

③:当进行污染金属元素检测时,为了避免出现因提取液的氧化性而导致的离子氧化干扰或片盒破坏而产生的颗粒,可选用的HCl+UPW溶液作为提取液,其中HCl的浓度为0.4%-0.6%,溶液总体积为1000ml±10ml,使用ICP-MS进行检测,此提取液记为提取液b。

5.根据权利要求6所述的三种提取液,其特征在于,三种提取液所对应的提取元素(离子)如下所示:

①:当利用去离子水(UPW)作为提取液时,对应的提取离子为铵根离子、亚硝酸根离子、硫酸根离子、氯离子、氟离子、磷酸根离子和钠离子;

②:当提取液a进行污染物提取时,对应的提取元素为Li、Na、Mg、Al、K、Ca、Ni、Cu、Mn、Fe、Co、Ni、Zn、Pb;

③:当提取液b进行污染物提取时,对应的提取元素为Na、Mg、Al、K、Cr、Ca、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn和Pb。

6.根据权利要求1所述的污染物提取方法,其特征在于,当利用IC进行检测,去离子水作为提取液时,提取方式为 ①:双手正握片盒,前后翻转90°的方式对片盒进行晃动,前、后翻转为一个周期,共进行8次晃动周期,使水充分接触片盒内表面;②:将片盒放入恒温箱中进行恒温静置;恒温温度为48-52℃,恒温提取时间为3h;③:恒温静置操作结束后,重复第一步操作后再取样进行测量;当利用ICP-MS进行检测时,两种提取液的提取方法为:将提取液倒入片盒中,盖上盖子,沟槽侧倾斜45°,静置30min,再将片盒反向,以同样的方式静置30min以完成提取。

7.根据权利要求4所示的片盒损坏而产生颗粒污染,其特征在于,当使用时间超过9个月的pp片盒,采用使用提取液b代替提取液a进行检测的方式来避免颗粒的产生。

8.根据权利要求1所示的测试,其特征在于,在进行ICP-MS时要进行空白对照测试,空白组的溶液要均分成三次进行测试,将三次测试的结果取平均值,将这个平均值作为空白组数据。

9.对于ICP-MS的提取液测试来说,提取液样品要在片盒的角落、中心和边缘三个不同的位置进行提取,然后分别进行测试,对照三次测试结果,若测试结果偏差百分比y满足以下方程:

其中X为三次测量中的中间浓度值(0.1ppt≤x≤800ppt),若最大值、最小值相较与中间浓度值之间的偏差比小于y,则视为测试正常并选取三次测试中的最大值作为污染物浓度准确值。

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