[发明专利]一种基于柔性薄膜的MEMS执行器及其制作方法在审
申请号: | 201711383154.3 | 申请日: | 2017-12-20 |
公开(公告)号: | CN107934906A | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 黄继宝;钱金贵;冮建华;黄波 | 申请(专利权)人: | 爱科赛智能科技(台州)有限公司 |
主分类号: | B81B3/00 | 分类号: | B81B3/00;B81B7/02;B81C1/00 |
代理公司: | 杭州新源专利事务所(普通合伙)33234 | 代理人: | 余冬 |
地址: | 317527 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 柔性 薄膜 mems 执行 及其 制作方法 | ||
1.一种基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:包括透明基底(1),透明基底(1)的中部设有铜线圈(2),铜线圈(2)的两端分别连接有设置在透明基底上的导电片(3),透明基底(1)的两侧经间隔层(4)设有硅衬底(7),硅衬底(7)上设有一层柔性薄膜(5),柔性薄膜(5)的内表面上设有一层磁性复合层(6),磁性复合层(6)位于铜线圈(2)的上方。
2.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述磁性复合层(6)由聚合物溶液和磁性颗粒均匀混合而成,磁性颗粒的体积密度为2%-10%。
3.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述铜线圈(2)和导电片(3)通过磁控溅射系统蒸镀在透明基底上,其厚度范围为100nm-200nm。
4.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述硅衬底(7)上设有与磁性复合层大小一致的方孔;硅衬底是通过4英寸的硅晶圆刻蚀而成,硅衬底的厚度为500μm,在KOH或者TMAH溶液中的湿法刻蚀角度为54.7°。
5.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述透明基底(1)上设有四个通孔,四个通孔内分别固定两个导电片和铜线圈的两端,铜线圈的两端通过铜电极分别与两个导电片连接,铜电极设置在透明基底的背面。
6.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述柔性薄膜(5)是高分子聚合物薄膜。
7.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述透明基底(1)是玻璃板或亚克力板。
8.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述导电片(3)上通过导电胶将铜丝固定在其上。
9.根据权利要求1-8任一项所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器的制作方法,其特征在于,按下述步骤进行:
①准备一片玻璃材质的基底并用酒精和去离子水进行清洗;
②利用旋涂技术以500rpm的转速在30s内将PMDS液体均匀的覆盖在基底上面,并在70°的环境里加热10h-12h;
③将碾碎的NdFeB磁性颗粒均匀的散在聚合物溶液内,搅拌均匀;之后加热进行固化处理形成磁性复合层;
④制备好的磁性复合层粘附在PMDS薄膜表面,再将PDMS薄膜从玻璃材质的基底上剥离,然后覆盖在刻蚀好的单个硅衬底上,使用胶液进行粘性加固处理;
⑤利用激光切割机制作间隔层和透明基底;
⑥在透明基底上制作铜线圈和导电片;
⑦将间隔层、硅衬底依次叠加并粘附在透明基底上。
10.根据权利要求9所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器的制作方法,其特征在于,所述透明基底上制作铜线圈的方法按如下步骤:
①将玻璃或或PMMA材质的透明基底用酒精和去离子水进行清洗;
②利用磁控溅射系统在透明基底蒸镀100nm-200nm厚度的铜层;
③利用旋涂技术以2000rpm的转速在30s内分别将HMDS溶液和光刻胶均匀的覆盖在铜层上面;
④将已制好的掩膜版放在光刻机内,并对光刻胶进行曝光处理,曝光时间为7s;
⑤将曝光后的透明基底放在显影液内,出现明显的光刻胶图案生成后取出;
⑥将透明基底放在加热板上,在110°的设定温度下进行5min的硬烘干;
⑦对铜层进行刻蚀,实现电极图案的转移;
⑧将剩余的光刻胶全部去除,最后用去离子水进行清洗即可。
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