[发明专利]一种基于柔性薄膜的MEMS执行器及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201711383154.3 申请日: 2017-12-20
公开(公告)号: CN107934906A 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 黄继宝;钱金贵;冮建华;黄波 申请(专利权)人: 爱科赛智能科技(台州)有限公司
主分类号: B81B3/00 分类号: B81B3/00;B81B7/02;B81C1/00
代理公司: 杭州新源专利事务所(普通合伙)33234 代理人: 余冬
地址: 317527 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 柔性 薄膜 mems 执行 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:包括透明基底(1),透明基底(1)的中部设有铜线圈(2),铜线圈(2)的两端分别连接有设置在透明基底上的导电片(3),透明基底(1)的两侧经间隔层(4)设有硅衬底(7),硅衬底(7)上设有一层柔性薄膜(5),柔性薄膜(5)的内表面上设有一层磁性复合层(6),磁性复合层(6)位于铜线圈(2)的上方。

2.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述磁性复合层(6)由聚合物溶液和磁性颗粒均匀混合而成,磁性颗粒的体积密度为2%-10%。

3.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述铜线圈(2)和导电片(3)通过磁控溅射系统蒸镀在透明基底上,其厚度范围为100nm-200nm。

4.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述硅衬底(7)上设有与磁性复合层大小一致的方孔;硅衬底是通过4英寸的硅晶圆刻蚀而成,硅衬底的厚度为500μm,在KOH或者TMAH溶液中的湿法刻蚀角度为54.7°。

5.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述透明基底(1)上设有四个通孔,四个通孔内分别固定两个导电片和铜线圈的两端,铜线圈的两端通过铜电极分别与两个导电片连接,铜电极设置在透明基底的背面。

6.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述柔性薄膜(5)是高分子聚合物薄膜。

7.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述透明基底(1)是玻璃板或亚克力板。

8.根据权利要求1所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器,其特征在于:所述导电片(3)上通过导电胶将铜丝固定在其上。

9.根据权利要求1-8任一项所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器的制作方法,其特征在于,按下述步骤进行:

①准备一片玻璃材质的基底并用酒精和去离子水进行清洗;

②利用旋涂技术以500rpm的转速在30s内将PMDS液体均匀的覆盖在基底上面,并在70°的环境里加热10h-12h;

③将碾碎的NdFeB磁性颗粒均匀的散在聚合物溶液内,搅拌均匀;之后加热进行固化处理形成磁性复合层;

④制备好的磁性复合层粘附在PMDS薄膜表面,再将PDMS薄膜从玻璃材质的基底上剥离,然后覆盖在刻蚀好的单个硅衬底上,使用胶液进行粘性加固处理;

⑤利用激光切割机制作间隔层和透明基底;

⑥在透明基底上制作铜线圈和导电片;

⑦将间隔层、硅衬底依次叠加并粘附在透明基底上。

10.根据权利要求9所述的基于柔性薄膜的MEMS执行器的制作方法,其特征在于,所述透明基底上制作铜线圈的方法按如下步骤:

①将玻璃或或PMMA材质的透明基底用酒精和去离子水进行清洗;

②利用磁控溅射系统在透明基底蒸镀100nm-200nm厚度的铜层;

③利用旋涂技术以2000rpm的转速在30s内分别将HMDS溶液和光刻胶均匀的覆盖在铜层上面;

④将已制好的掩膜版放在光刻机内,并对光刻胶进行曝光处理,曝光时间为7s;

⑤将曝光后的透明基底放在显影液内,出现明显的光刻胶图案生成后取出;

⑥将透明基底放在加热板上,在110°的设定温度下进行5min的硬烘干;

⑦对铜层进行刻蚀,实现电极图案的转移;

⑧将剩余的光刻胶全部去除,最后用去离子水进行清洗即可。

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