[发明专利]一种Mo合金基体上MoTaAl涂层的制备方法

权利要求书

1.一种Mo合金基体上MoTaAl涂层的制备方法，其特征在于MoTaAl涂层中各组分的含量为Mo 52~72 wt%、Ta 22~40 wt%、Al 3~10 wt%，厚度为3～50μm，制备的具体步骤为：

1）基体经机械沙纸打磨、化学电解抛光去油、去离子水冲洗、烘干、酒精超声波清洗、烘干、丙酮超声波清洗、烘干；

2）将Mo合金基体清洗干燥后放入磁控溅射离子镀设备的真空室中，靶材至少包含一个纯Mo靶、一个纯Ta靶和一个纯Mo金属靶，将真空室抽真空到 1×10^-5~9×10^-5Torr；

3）对Mo合金基体进行离子轰击清洗：通入Ar气，流量为 5~25sccm ，时间为12~30min；

4）沉积Mo打底层：调整靶电流分别为：I_Mo为0.2~1A；调整工件的负偏压为-150~-l00V，时间为5~20min；

5）沉积MoTaAl镀层：调整靶电流分别为：I_Mo为1~5A，I_Ta为0.5~4A, I_Al为0.6~5A；调整工件的负偏压为-90~-40V，时间为30~400min；镀膜完成后，冷却至室温，取出试样即可。

2.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述Mo合金基体为纯Mo、钨Mo合金、Mo钛合金、Mo镐合金、稀土Mo合金或多元系Mo合金。

3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于所述Mo合金基体为Mo合金棒、Mo合金管、Mo合金片或异型件。