[发明专利]利用霍尔效应测量铁基表面上非磁性涂层的探头

权利要求书

1.利用霍尔效应测量铁基表面上非磁性涂层的探头，其特征在于设有探头底端、探头磁端、压力底座、压力上盖、弹簧和接触底座；所述探头底座和探头磁端为测量部分，压力底座、压力上盖和弹簧为机械装置，压力底座与压力上盖通过螺纹连接，其中压力底座为外螺纹，压力上盖为内螺纹；所述弹簧嵌于探头磁端的尾部和压力上盖的尾柱之间，探头底端的尾部设有2个突出的卡位键，探头底端尾部的卡位键与压力底座尾部的卡位槽间隙配合，进而限制探头底端轴向的旋转和xy平面的平动，使得探头底端能沿其轴向平动；探头底端和探头磁端间通过螺纹连接，其中探头底端为内螺纹，探头磁端为外螺纹。

2.如权利要求1所述利用霍尔效应测量铁基表面上非磁性涂层的探头，其特征在于内嵌有线性霍尔芯片以及永久磁铁，霍尔芯片嵌在探头底端，探头底端直接与铁基表面贴合；永久磁嵌在探头磁端的头部，永久磁铁通过螺纹与探头底端配合。

3.如权利要求1所述利用霍尔效应测量铁基表面上非磁性涂层的探头，其特征在于所述探头磁端的头部嵌有1个D5*1和磁铁表磁强度为1200Gauss的圆形铷铁硼永久磁。

4.如权利要求1所述利用霍尔效应测量铁基表面上非磁性涂层的探头，其特征在于若铁基等磁性金属基体厚度>1000um或涂层厚度>2cm时，在探头磁端再嵌入一个同规格同型号的磁铁，用于加强磁性。

5.如权利要求1所述利用霍尔效应测量铁基表面上非磁性涂层的探头，其特征在于所述探头底端嵌有线性霍尔芯片。

6.如权利要求1所述利用霍尔效应测量铁基表面上非磁性涂层的探头，其特征在于所述霍尔芯片置于永久磁铁之下，基体之上。

7.如权利要求1所述利用霍尔效应测量铁基表面上非磁性涂层的探头，其特征在于所述霍尔芯片采用霍尼韦尔公司的SS495A1芯片、SS496A1芯片、SS495A2芯片中的一种。

8.如权利要求1所述利用霍尔效应测量铁基表面上非磁性涂层的探头，其特征在于所述磁铁与霍尔芯片表面存在间隙为2mm。

9.如权利要求1所述利用霍尔效应测量铁基表面上非磁性涂层的探头，其特征在于探头底端的头部高出压力底座的头部，高出部分的平面与基体平面直接接触。

10.如权利要求1所述利用霍尔效应测量铁基表面上非磁性涂层的探头，其特征在于探头底端下表面设有4个直径1mm的孔，通过过盈配合与接触底座突出的4个柱结构相连。