[发明专利]一种钨钼合金薄片的清洗方法

说明书

本发明公开了一种钨钼合金薄片的清洗方法。其包括如下步骤：将待清洗钨钼合金薄片放置在K‑200溶液中进行超声清洗；超声波的频率为50Hz～60Hz；所述超声清洗的时间为20min～30min；所述K‑200溶液中K‑200与水体积比为1：1～1：4。在不腐蚀钨钼合金薄片的前提下，实现了钨钼合金薄片的常温快速高效清洗，明显提高了其表面洁净度。

技术领域

本发明属于材料表面处理领域，具体为一种钨钼合金薄片的清洗方法。

背景技术

随着健康医疗产业技术的发展，CT机、肿瘤治疗仪(伽玛刀)对于高平面度栅格准直片的小型化、薄型化要求越来越高，栅格准直片主要作为X光透射的准直通道，对其表面洁净要求很高，从而对其表面提出了更高的要求。

在目前的工业化生产中，有时需要采化学处理的方法清洗切割品，达到所需要的粗糙度、洁净度要求。但化学处理会产生化学反应物粘附在产品表面，增加了表面残留物，使得产品洁净度下降。一般的，化学处理后通常是水洗处理，水洗比较容易冲洗掉化学溶液的残留液，但是一些化学反应产物会集聚在合金表面上难以清除，给后续的还原反应造成压力，产物集聚多，还原不彻底时表面容易形成斑点装花纹，影响表观质量。弱酸性或弱碱性溶液可以用于清除金属表面上的残留物，由于钨钼合金中通常含有少量的铜，为了保护其中的铜不被腐蚀，一般采用弱碱性溶液进行清洗，清洗效果与水清洗相比有所提高，但达不到所需要的粗糙度、洁净度要求。K-200是一种安全不会对人体造成刺激的弱酸性活性清洗剂，一般用来清洗耐酸腐蚀的金属类零件，本领域技术人员通常使用此种除锈剂清洗耐酸腐蚀的金属类零件，通常不会用于清洗不耐酸腐蚀的零件。

发明内容

本发明要解决的技术问题在于为了克服化学处理后的钨钼合金薄片经常规清洗方法清洗后残留物较多、表面洁净度低的缺陷，进而提供了一种钨钼合金薄片的清洗方法，可以明显提高表面洁净度。

对于清洗剂K-200因其弱酸性会对铜产生腐蚀作用，尤其在超声波的辅助下，更会加速对钨钼合金中所含铜的腐蚀，一般少用在钨钼合金薄片清洗中。然而，发明人经过大量实验以外发现，通过合理控制K-200与水体积比、超声波频率和超声清洗时间，在不腐蚀钨钼合金的前提下，实现常温快速高效清洗；并且在超声波震荡过程中，集聚在钨钼合金表面的化学产物集聚物被超声剥离进K-200溶液中，并利用K-200溶液的粘性，这些反应产物就不容易再团聚在合金表面上而形成花斑，从而达到剥离-吸附的目的，最终形成干净的表面。

本发明通过下述技术方案解决上述技术问题。

本发明提供一种钨钼合金薄片的清洗方法，其包括如下步骤：将待清洗钨钼合金薄片放置在K-200溶液中进行超声清洗；超声波的频率为50Hz～60Hz；所述超声清洗的时间为20min～30min；所述K-200溶液中K-200与水体积比为1：1～1：4。

本发明中，所述K-200可为高岭牌，型号KDV-200。

本发明中，所述待清洗钨钼合金薄片可以竖立放置在K-200溶液中。

本发明中，所述K-200溶液中K-200与水体积比较佳地为1:1。

本发明中，所述超声波的频率较佳地为60Hz。

本发明中，所述超声清洗采用本领域常规超声波清洗机，其功率可为1KW～2KW。

本发明中，所述超声清洗的温度一般为室温5℃～40℃，例如25℃。

在符合本领域常识的基础上，上述各优选条件，可任意组合，即得本发明各较佳实例。

本发明所用试剂和原料均市售可得。

本发明的积极进步效果在于：