[发明专利]SiCN陶瓷无线无源谐振腔式压力传感器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711376686.4 申请日: 2017-12-19
公开(公告)号: CN108088590A 公开(公告)日: 2018-05-29
发明(设计)人: 余煜玺;刘熠新;余洪哿 申请(专利权)人: 厦门大学
主分类号: G01L1/14 分类号: G01L1/14;G01L1/26
代理公司: 厦门南强之路专利事务所(普通合伙) 35200 代理人: 马应森
地址: 361005 *** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 非晶态 谐振腔 陶瓷 压力传感器 贴片天线 无线无源 压力片 耦合槽 天线 陶瓷底座 陶瓷环片 耦合 金属层 制备 空气谐振腔 波导线 内表面 上表面
【权利要求书】:

1.SiCN陶瓷无线无源谐振腔式压力传感器,其特征在于设有非晶态SiCN陶瓷压力片、非晶态SiCN陶瓷环片、非晶态SiCN陶瓷底座、贴片天线、耦合槽天线和空气谐振腔;

所述非晶态SiCN陶瓷压力片、非晶态SiCN陶瓷底座表面和非晶态SiCN陶瓷环片内表面涂有金属层,金属层形成谐振腔,贴片天线设在非晶态SiCN陶瓷压力片顶部,耦合槽天线设在谐振腔上表面,谐振腔通过耦合槽天线与贴片天线耦合,贴片天线与共面波导线耦合。

2.如权利要求1所述SiCN陶瓷无线无源谐振腔式压力传感器,其特征在于所述圆柱形非晶态SiCN陶瓷传感元件的直径为10~16mm,厚度为2~5mm。

3.如权利要求1所述SiCN陶瓷无线无源谐振腔式压力传感器,其特征在于所述金属层采用耐高温金属层,所述耐高温金属层的材料熔点大于1000℃,所述耐高温金属层的厚度为20~50μm。

4.如权利要求1~3所述SiCN陶瓷无线无源谐振腔式压力传感器的制备方法,其特征在于包括以下步骤:

1)制备圆柱形非晶态SiCN陶瓷传感元件

(1)制备SiCN陶瓷素坯:

a.将先驱体聚硅氮烷与光引发剂混合后,放入模具中进行紫外预交联,得到淡黄色SiCN陶瓷素坯;或

b.将先驱体聚硅氮烷进行热交联,使其由液态的聚硅氮烷变为淡黄色固态的聚硅氮烷,球磨成粉末并经过压制、等静压得到SiCN陶瓷素坯;或

c.将先驱体聚硅氮烷与光引发剂混合后,进行紫外交联,球磨成粉末后,经过压制、等静压得到SiCN陶瓷素坯;

(2)将SiCN陶瓷素坯在惰性气体保护下热解,再退火处理后,得到非晶态SiCN陶瓷传感元件;

2)对非晶态SiCN陶瓷传感元件进行处理,使其表面光滑且尺寸达到规定要求;

3)在非晶态SiCN陶瓷压力片底座耦合槽天线位置处,贴上与耦合槽尺寸一致的聚酰亚胺胶带后,涂上金属浆料构成耦合槽天线,在非晶态SiCN陶瓷压力片的顶部贴片天线位置处,用聚酰亚胺胶带保护后,涂上金属浆料构成贴片天线;在非晶态SiCN陶瓷底座上表面涂上金属层浆料;在非晶态SiCN陶瓷环片内表面涂上金属层浆料,非晶态SiCN陶瓷压力片、非晶态SiCN陶瓷底座和非晶态SiCN陶瓷环片共同形成了谐振腔;然后再除掉聚酰亚胺胶带,即得到有耦合槽天线、贴片天线的谐振腔;

4)完成金属浆料的金属化,并选用合适的粘结剂完成三个部分的粘结,最终得到非晶态SiCN陶瓷无线无源谐振腔式压力传感器。

5.如权利要求4所述SiCN陶瓷无线无源谐振腔式压力传感器的制备方法,其特征在于在步骤1)第(1)部分的a中,所述光引发剂为I819光引发剂;所述先驱体聚硅氮烷与I819光引发剂的混合比例,按质量比可为1︰(0.005~0.1);所述模具为聚二甲基硅氧烷模具,模具的直径可为10~18mm,模具的高度可为3~6mm;所述紫外交联的条件可为:紫外灯光照射下直接交联,紫外灯的功率为250W,紫外光的中心波长为326nm,紫外交联的时间可为0.25~2h。

6.如权利要求4所述SiCN陶瓷无线无源谐振腔式压力传感器的制备方法,其特征在于在步骤1)第(1)部分的b中,所述热交联的温度为80~450℃,热交联的时间为0.5~4.5h;所述粉末的粒径可为0.1~2μm;所述压制成型的压力可为4~6MPa,保压时间可为2min;所述等静压的压力可为20~25MPa,保压时间可为0.5h。

7.如权利要求4所述SiCN陶瓷无线无源谐振腔式压力传感器的制备方法,其特征在于在步骤1)第(2)部分中,所述惰性气体采用氮气或氩气;所述热解的温度可为800~1000℃,热解的时间可为1~8h;所述退火处理的温度可为1000~1500℃,退火处理的时间可为1~8h;所制得的非晶态SiCN陶瓷传感元件的密度为1.90~2.25g/cm3

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门大学,未经厦门大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711376686.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top