[发明专利]钨钼合金箔材的抛光方法及获得的产品

说明书

本发明涉及钨钼合金箔材的抛光方法及获得的产品，所述方法包括步骤，(1)将导磁性材料、箔材产品、抛光液放入容器，进行抛光，(2)重复上述步骤(1)一次或多次；或者包括将导磁性材料、箔材产品、抛光液放入容器，进行磁力抛光；其中，所述抛光液为纳米级二氧化硅水溶液或纳米级氧化铝水溶液，水溶液中纳米级二氧化硅或纳米级氧化铝粉末质量百分比含量为10％‑20％。使用本发明方法抛光后的钨钼合金箔材的表面粗糙度Ra小于0.05微米。

技术领域

本发明涉及钨钼合金箔材的抛光方法及获得的产品。

背景技术

随着LED照明产业、光通讯产业、显示屏等产业技术的迅猛发展，对于GaN基发光体散热或其它芯片级散热材料的小型化薄型化需求越来越多，并且随着半导体行业用晶圆尺寸越来越大，对大尺寸钨钼合金散热箔材的需求也越来越大，由于电子级散热材料对表面质量的要求很高，从而对钨钼箔材的表面抛光需求也越来越多，急需一种可实现的较低成本的批量抛光技术来满足行业发展的需求。

在目前的工业化大批量生产中，对厚度大于0.1mm薄板材的抛光，行业里通常采用双面/单面研磨机加上双面/单面抛光机进行加工处理。在目前的技术条件下，单纯就实现一般尺寸材料(如硅、蓝宝石、氮化铝、氧化铝陶瓷等)的抛光来说常采用双端面研磨机、双端面抛光机或单面研磨机、单面抛光机进行技术实现。其中，双端面研磨抛光可以实现更小的板材同板差(TTV≤0.004mm)，更好的双面均匀度，效率也比较高，一般直径不大于4英寸的产品用双面研磨机实现比较容易，通常可控实现的厚度不小于0.1mm。

而对于外形尺寸小于4英寸，厚度小于0.1mm的钨钼箔材来说，其镜面抛光勉强可以通过双端面研磨机、双端面抛光机实现，但因其配套使用的游星轮厚度更小(研磨抛光0.1mm产品时使用的游星轮厚度在0.08mm-0.09mm)，刚度很差，极其容易破损，导致产品良率很低，生产效率也很低，综合成本很高。

另一种实现近镜面抛光的方法是采用近镜面轧制，主要是采用轧机，使用轧机的工作辊通过轧制的方法进行镜面抛光实现近镜面箔材。这种方法对外圆磨削镜面轧辊提出了苛刻要求，而且轧辊在轧制过程中很容易损伤，需要频繁更换。另外，轧制过后一般需要退火热处理，而对镜面处理后的钨钼箔材进行退火，难度较大，难以实现。

综上，大尺寸钨钼合金箔材(通常指直径不小于152.4mm(6英寸)或长和宽尺寸不小于152.4mm×152.4mm，以及厚度不大于0.1mm)难以通过现有报道的技术进行实现近镜面抛光。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于解决大尺寸低厚度钨钼合金箔材在现有技术中无法实现近镜面抛光的问题。

本发明的第一方面提供了一种钨钼合金箔材的抛光方法，所述方法包括将导磁性材料、钨钼合金箔材、抛光液放入容器，进行磁力抛光。

其中，所述抛光液为纳米级二氧化硅水溶液或纳米级氧化铝水溶液。其中，所述水溶液中纳米级二氧化硅或纳米级氧化铝粉末质量百分比含量为10％-20％。

其中，所述纳米级氧化铝水溶液中纳米级氧化铝粉的平均粒径为250nm-350nm。纳米级氧化铝粉来源可以采用市售或采用现有报道的制备方法制备。比如，纳米氧化铝粉的产品牌号为Nabalox 783，生产厂家为德国Nabaltec。

其中，所述纳米级二氧化硅水溶液中纳米级二氧化硅粉末的平均粒径为250nm-350nm。纳米级二氧化硅粉粉末来源可以为市售或采用现有报道的制备方法制备。

其中，所述抛光液中的水为去离子水。

其中，进一步的，所述抛光溶液中不含高分子聚合物或高分子胶体。

其中，所述抛光液的用量为抛光液液面高度为所述容器深度的30％-80％。其中，进一步的，抛光液的用量为抛光液液面高度为容器高度的30％-50％。