[发明专利]一种钙钛矿光电晶体管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711372080.3 申请日: 2017-12-19
公开(公告)号: CN108023019A 公开(公告)日: 2018-05-11
发明(设计)人: 周航;许晓特;张盛东 申请(专利权)人: 北京大学深圳研究生院
主分类号: H01L51/42 分类号: H01L51/42;H01L51/48
代理公司: 北京卓岚智财知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11624 代理人: 任漱晨
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 钙钛矿 光电晶体管 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种钙钛矿光电晶体管,其特征在于,所述钙钛矿光电晶体管包括,基础衬底,位于基础衬底上的源漏金属电极(4),金属氧化物半导体薄膜(5),所述金属氧化物半导体薄膜(5)上覆盖有电荷传输界面层(6),所述电荷传输界面层(6)上方有图形化的有机无机杂化钙钛矿材料层(7),所述电荷传输界面层(6)至少将图形化的有机无机杂化钙钛矿材料层(7)与源漏金属电极(4)、金属氧化物半导体薄膜(5)分隔开,所述基础衬底的上方设有一层钝化层(8),所述钝化层(8)将所述电荷传输界面层(6)、所述图形化的有机无机杂化钙钛矿材料层(7)全部覆盖。

2.根据权利要求1所述的钙钛矿光电晶体管,其特征在于,所述基础衬底包括:衬底(1),位于衬底(1)上的栅极(2),位于栅极(2)上的栅极绝缘层(3);所述衬底(1)为:硅衬底、玻璃衬底、石英衬底、聚酰亚胺PI衬底、聚对苯二甲酸乙二醇酯PET衬底和聚萘二甲酸乙二醇酯PEN衬底。

3.根据权利要求1所述的钙钛矿光电晶体管,其特征在于,所述基础衬底为覆盖有二氧化硅的硅衬底(9)。

4.根据权利要求1所述的钙钛矿光电晶体管,其特征在于,

所述金属电极(4)和金属氧化物半导体薄膜(5)在同一平面上:所述基础衬底上表面沉积有金属电极(4),所述金属氧化物半导体薄膜(5)覆盖在金属电极(4)沟道处;或者所述金属氧化物半导体薄膜(5)将金属电极(4)完全覆盖。

5.根据权利要求1所述的钙钛矿光电晶体管,其特征在于,

所述电荷传输界面层(6)将所述基础衬底、源漏金属电极(4)和金属氧化物(5)完全覆盖;

所述电荷传输界面层(6)的材料包括:富勒烯C60、富勒烯衍生物PCBM、富勒烯衍生物ICBA、富勒烯及其衍生物与聚甲基丙烯酸甲酯PMMA的共混体;

所述电荷传输界面层(6)的厚度为10nm至50nm;

所述图形化的有机无机杂化钙钛矿材料层(7)位于金属氧化物半导体薄膜(5)正上方,并且投影面积小于所述金属氧化物半导体薄膜(5);

所述图形化的有机无机杂化钙钛矿材料层(7)的材料的化学式为ABX3,A包括CH3NH3+、NH2CHNH2+、CS+、Rb+,B包括Pb2+、Sn2+、Ge2+、Sr2+、Cu2+、Bi3+、Sb3+,X包括I-、Cl-或Br-

所述图形化的有机无机杂化钙钛矿(7)厚度20nm至2um;

所述金属氧化物半导体薄膜的(5)的材料包括:铟镓锌氧化物IGZO、铟锌锡氧化物IZTO、掺铝氧化锌AZO、锌锡氧化物ZTO、镁锌氧化物MZO;

所述金属氧化物半导体薄膜(5)的厚度为10nm至100nm;

所述钝化层(8)的材料包括:聚甲基丙烯酸甲酯PMMA、全氟树脂CYTOP、氧化硅SiOx、氮化硅SiNx和氧化铝Al2O3

所述钝化层的厚度20nm至900nm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京大学深圳研究生院,未经北京大学深圳研究生院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711372080.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top