[发明专利]一种基于连续磁控溅射的颜色膜成型方法在审
| 申请号： | 201711366603.3 | 申请日： | 2017-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN108118298A | 公开（公告）日： | 2018-06-05 |
| 发明（设计）人： | 吴卫锋;刘勇;熊正茂;唐响 | 申请（专利权）人： | 池州市正彩电子科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/02;C23C14/08;C23C14/14 |
| 代理公司： | 合肥中博知信知识产权代理有限公司 34142 | 代理人： | 张加宽 |
| 地址： | 247000 安徽省池州*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反应膜层 金属膜层 颜色膜 多层 磁控溅射 成型 反应性气体 最外层 镀基 溅镀 可见光平均反射率 金属膜层表面 成膜技术 镀膜工艺 金属靶材 真空腔 镀膜 溅射 沉积 制备 体内 配合 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于连续磁控溅射的颜色膜成型方法，其特征在于：包括在待镀基材表面溅镀形成一层或多层金属膜层，然后在最外层的金属膜层表面加镀一层或多层反应膜层，
或，先在待镀基材表面溅镀形成一层或多层反应膜层，然后在最外层的反应膜层表面加镀一层或多层金属膜层；
所述的反应膜层由真空腔体内溅射的金属靶材与反应性气体反应并沉积而成；其中，金属膜层的厚度为5～35nm，可见光平均反射率为20～75％，所述反应性气体的通入量为30～80ml/min。
2.根据权利要求1所述的基于连续磁控溅射的颜色膜成型方法，其特征在于：溅镀形成金属膜层的金属靶材包括金属铬、不锈钢、铝、钛、铜、镍。
3.根据权利要求1所述的基于连续磁控溅射的颜色膜成型方法，其特征在于：所述的反应膜层为金属氧化物、氮化物、碳化物中的一种；所述的溅镀靶材为单位靶材或多元素靶。
4.根据权利要求1所述的基于连续磁控溅射的颜色膜成型方法，其特征在于：所述的反应性气体选自氧气、氮气或碳氢化合物气体。
5.根据权利要求1所述的基于连续磁控溅射的颜色膜成型方法，其特征在于：用于溅镀的溅射气体为氩气。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于池州市正彩电子科技有限公司，未经池州市正彩电子科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711366603.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
