[发明专利]基于超像素的四元数小波域图像水印检测方法有效
申请号: | 201711365771.0 | 申请日: | 2017-12-18 |
公开(公告)号: | CN108090864B | 公开(公告)日: | 2021-06-11 |
发明(设计)人: | 王向阳;张思禹;牛盼盼 | 申请(专利权)人: | 辽宁师范大学 |
主分类号: | G06T1/00 | 分类号: | G06T1/00;G06T5/00;G06T7/11 |
代理公司: | 大连非凡专利事务所 21220 | 代理人: | 闪红霞 |
地址: | 116000 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 像素 四元数小波域 图像 水印 检测 方法 | ||
1.一种基于超像素的四元数小波域图像水印检测方法,包括水印嵌入及水印提取,其特征在于:
约定:I指宿主图像;H表示超像素块的熵值;LLi(x,y)表示待修改非下采样shearlet变换系数;q表示量化步长的固定值;Wi表示二值水印图像;round为四舍五入函数;
所述水印嵌入按照以下步骤进行:
a.初始设置
获取宿主图像并初始化变量;
b.宿主图像熵率超像素方法分割
b.1计算超像素块的信息熵:
b.2按照平均熵值将超像素划分为平滑区域和非平滑区域,H大于平均熵值为平滑区域,H小于平均熵值为非平滑区域;
c.特征点提取
c.1结合超像素的平均熵值自适应确定SIFER算子的噪声点抑制阈值eratio,平滑区域eratio=15,非平滑区域eratio=10;
c.2利用SIFER算子分别在平滑超像素和非平滑超像素内提取特征点;
d.局部特征区域构造及预处理
d.1通过二阶自相关矩阵R的特征值(λ1,λ2)求取长轴ra与短轴rb,通过R的特征向量(v1,v2)求取角度α,圆心为特征点x(x,y)来构造椭圆形局部特征区域:
d.2综合预攻击图像方法,筛选稳定的特征点并构造椭圆区域,再筛选掉长轴过长、过短的椭圆区域,余下的特征区域根据面积由大至小排列并进行攻击,结合攻击结果选择最终稳固的特征区域;
d.3稳定的椭圆形区域映射为圆形区域,其中θ、ra_dis和rb_dis表示映射参数:
d.4圆形特征区域周围“补0”以取得外接正方形子图像;
e.水印嵌入
e.1对外接正方形子图像采用一级四元数小波变换,分解出低频子带图像LL,高频子带图像HL,LH和HH,Q表示子带矩阵,矩阵Q的每竖列都是一个四元数,根据下式可以求出四元数小波变换的幅相矩F:
e.2选取幅值作为载体,利用量化方法,根据量化步长和相应的水印信息量化为奇数或偶数,按位嵌入到每块中:
e.3将含水印子带与其他子带图像合并,重构得到含水印子图像;
e.4依次将每个圆形区域都嵌入水印,将含水印的圆形区域映射为椭圆区域,最终得到含水印图像Iw′。
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