[发明专利]一种高产黄蜀葵种植肥料在审

专利信息
申请号: 201711362644.5 申请日: 2017-12-18
公开(公告)号: CN107973669A 公开(公告)日: 2018-05-01
发明(设计)人: 李艳 申请(专利权)人: 李艳
主分类号: C05G3/04 分类号: C05G3/04;C05G3/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 239400 安徽省阜阳*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 高产 蜀葵 种植 肥料
【说明书】:

技术领域

发明涉及,尤其涉及一种高产黄蜀葵种植肥料。

背景技术

我国是一个农业大国,农药和化肥在农业生产中发挥着十分重要的作用,随着人们生活水平和健康意识的提高,人们都非常重视农产品的安全性,对无公害、绿色食品的需求逐年增加。

目前农业防治病虫害及农作物所施化肥,主要是用化学制剂和有毒农药经混合搅拌,施入土壤中或农作物上,年复一年地长期使用大量的农药和化肥,致使害虫产生耐药性,土壤板结,对水源土壤和农作物造成污染,农产品质量下降,农药残留超标,严重影响人们的身心健康和我国农产品在国际市场的竞争力。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种高产黄蜀葵种植肥料。

为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:

一种高产黄蜀葵种植肥料,其特征在于,按照重量份有以下原料组成:五氧化二磷4-9份、硝基腐殖酸铵2-6份、聚天门冬氨酸钠1-4份、甜菊糖苷3-7份、甲叉琥珀酸5-9份、翻白草7-10份、过磷酸钙4-8份、黄豆渣12-15份、吲哚丙酸3-7份、淀粉醚4-7份、中草药复混物2-5份、麦麸皮9-12份、螯合锌2-6份、苦楝皮粉8-15份、甘蔗下脚料10-15份、甲壳素3-7份、甘油1-3份和水花生3-7份。

上述的一种高产黄蜀葵种植肥料,其特征在于,按照重量份有以下原料组成:五氧化二磷4-8份、硝基腐殖酸铵2-5份、聚天门冬氨酸钠1-3份、甜菊糖苷3-6份、甲叉琥珀酸5-8份、翻白草7-9份、过磷酸钙4-7份、黄豆渣12-14份、吲哚丙酸3-6份、淀粉醚4-6份、中草药复混物2-4份、麦麸皮9-11份、螯合锌2-5份、苦楝皮粉8-14份、甘蔗下脚料10-14份、甲壳素3-6份、甘油1-2.9份和水花生3-6份。

上述的一种高产黄蜀葵种植肥料,其特征在于,按照重量份有以下原料组成:五氧化二磷5-8份、硝基腐殖酸铵3-5份、聚天门冬氨酸钠2-3份、甜菊糖苷4-6份、甲叉琥珀酸6-8份、翻白草8-9份、过磷酸钙5-7份、黄豆渣13-14份、吲哚丙酸4-6份、淀粉醚5-6份、中草药复混物3-4份、麦麸皮10-11份、螯合锌3-5份、苦楝皮粉9-14份、甘蔗下脚料11-14份、甲壳素4-6份、甘油1.1-2.9份和水花生4-6份。

上述的一种高产黄蜀葵种植肥料,其特征在于,按照重量份有以下原料组成:五氧化二磷6.5份、硝基腐殖酸铵4份、聚天门冬氨酸钠2.5、甜菊糖苷5份、甲叉琥珀酸7份、翻白草8.5份、过磷酸钙6份、黄豆渣13.5份、吲哚丙酸5份、淀粉醚5.5份、中草药复混物3.5份、麦麸皮10.5份、螯合锌4份、苦楝皮粉11.5份、甘蔗下脚料12.5份、甲壳素5份、甘油2份和水花生5份。

与现有技术相比,本发明的有益效果为:

本发明一种高产黄蜀葵种植肥料含有大量有机质营养成份,极大地促进黄蜀葵生长,有利于土壤改良,是一种长久高效的有机肥料等有益效果。

具体实施方式

实施例1

一种高产黄蜀葵种植肥料,其特征在于,按照重量份有以下原料组成:五氧化二磷4份、硝基腐殖酸铵2份、聚天门冬氨酸钠1份、甜菊糖苷3份、甲叉琥珀酸5份、翻白草7份、过磷酸钙4份、黄豆渣12份、吲哚丙酸3份、淀粉醚4份、中草药复混物2份、麦麸皮9份、螯合锌2份、苦楝皮粉8份、甘蔗下脚料10份、甲壳素3份、甘油1份和水花生3份。

实施例2

上述的一种高产黄蜀葵种植肥料,其特征在于,按照重量份有以下原料组成:五氧化二磷9份、硝基腐殖酸铵6份、聚天门冬氨酸钠4份、甜菊糖苷7份、甲叉琥珀酸9份、翻白草10份、过磷酸钙8份、黄豆渣15份、吲哚丙酸7份、淀粉醚7份、中草药复混物5份、麦麸皮12份、螯合锌6份、苦楝皮粉15份、甘蔗下脚料15份、甲壳素7份、甘油3份和水花生7份。

实施例3

上述的一种高产黄蜀葵种植肥料,其特征在于,按照重量份有以下原料组成:五氧化二磷6.5份、硝基腐殖酸铵4份、聚天门冬氨酸钠2.5、甜菊糖苷5份、甲叉琥珀酸7份、翻白草8.5份、过磷酸钙6份、黄豆渣13.5份、吲哚丙酸5份、淀粉醚5.5份、中草药复混物3.5份、麦麸皮10.5份、螯合锌4份、苦楝皮粉11.5份、甘蔗下脚料12.5份、甲壳素5份、甘油2份和水花生5份。

以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。

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