[发明专利]一种含和田玉粉的祛痘面霜

权利要求书

1.一种含和田玉粉的祛痘面霜，其特征在于，所述面霜由以下重量份成分组成：纳米级和田玉粉0.5-1份、猴头菌多糖0.5-2份、保湿剂10-25份、润肤剂5-10份、乳化剂3-7份、防腐剂0.1-0.2份、增稠剂0.05-0.2份、去离子水40-75份。

2.根据权利要求1所述的含和田玉粉的祛痘面霜，其特征在于，所述面霜由以下重量份成分组成：纳米级和田玉粉0.7份、猴头菌多糖1份、保湿剂15份、润肤剂7份、乳化剂5份、防腐剂0.15份、增稠剂0.1份、去离子水55份、和田玉粉0.7份、猴头菌多糖1份。

3.根据权利要求1或2所述的含和田玉粉的祛痘面霜，其特征在于，所述的纳米级和田玉粉的制备方法包括如下步骤：

(1)将和田玉原粉采用球磨工艺进行粗磨,研磨时间为20min-3h；

(2)将经步骤(1)粗磨后得到的粉体筛分为粗粉和细粉，其中，所述粗粉的粒径>2μm，细粉的粒径为≤2μm；

(3)分别将步骤(2)中的粗粉和细粉采用球磨工艺进行研磨，得到粒径为150～200nm的细粉，其中粗粉的研磨时间为2h，细粉的研磨时间为3h；

(4)将步骤(3)中得到的所述粒径为150～200nm的细粉采用球磨工艺进行超细研磨，得到纳米级和田玉粉，所述的纳米级和田玉粉在至少一个维度上的粒径≤100nm。

4.根据权利要求1或2所述的含和田玉粉的祛痘面霜，其特征在于，所述的猴头菌多糖的制备方法为：(1)取猴头菇干粉，按1:50的比例加入蒸馏水搅拌均匀，在60℃，130W下超声提取60min，得到提取液；(2)将步骤(1)得到的提取液加热至80℃恒温浸提3h，然后经3000r/min离心15min，取上清液；(3)将步骤(2)得到的上清液加热至80℃恒温浸提2.5h，然后经4000r/min离心15min，蒸发浓缩至原体积的四分之一，得到浓缩液；(4)向步骤(3)得到的浓缩液中加入4倍体积的95％乙醇，静置8h，过滤取沉淀；(5)将步骤(4)得到的沉淀真空干燥2h，温度为70℃，得到猴头菇多糖。

5.根据权利要求1或2所述的含和田玉粉的祛痘面霜，其特征在于，所述的保湿剂为:丁二醇、丙二醇、甘油、透明质酸钠中任意一种或多种的混合物。

6.根据权利要求1或2所述的含和田玉粉的祛痘面霜，其特征在于，所述的润肤剂为：辛酸/癸酸甘油三酯、环五聚二甲基硅氧烷/环己硅氧烷、聚二甲基硅氧烷、鲸蜡硬脂醇任意一种或多种的混合物。

7.根据权利要求1或2所述的含和田玉粉的祛痘面霜，其特征在于，所述的乳化剂为：鲸蜡硬脂醇/鲸蜡硬脂基葡糖苷、聚丙烯酰胺/C13-14异链烷烃/月桂醇聚醚-7的混合物。

8.根据权利要求1或2所述的含和田玉粉的祛痘面霜，其特征在于，所述的防腐剂为苯氧乙醇。

9.根据权利要求1或2所述的含和田玉粉的祛痘面霜，其特征在于，所述的增稠剂为卡波姆。

10.一种制备权利要求1-9任一项所述祛痘面霜的方法，包括以下步骤：

(1)将乳化剂和润肤剂混合作为A相投入油相锅加热至85℃，搅拌溶解完全后保温待用；

(2)将保湿剂、增稠剂和去离子水混合作为B相加入水相锅中加热至85℃，搅拌溶解完全后保温待用；

(3)将乳化锅预热至60-65℃，搅拌速度45转/分钟，先将B相抽入，再将A相抽入，搅拌30分钟，温度保持在85℃；均质3分钟；

(4)降温至40℃依此加入D相，保温搅拌10分钟，搅拌速度35转/分钟，最后加入C相，保温10-20分钟；所述C相为防腐剂，所述D相为纳米级和田玉粉和猴头菇多糖；

(5)搅拌降温至40℃抽真空出料。