[发明专利]光学装置、曝光装置以及物品的制造方法

权利要求书

1.一种光学装置，使反射镜变形，所述光学装置的特征在于，

包括对所述反射镜施加力的多个致动器，

所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，

所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，

所述部件具有所述部件与所述磁铁的接合面比所述部件与所述反射镜的接合面小的锥形形状，

与所述磁铁接合的所述部件的接合面的面积比所述磁铁的所述部件侧的面的面积小，

所述光学装置还包括支承所述反射镜的支承部件，

所述多个致动器包括第1致动器以及第2致动器，该第1致动器具有相互对置地配置的第1磁铁和第1线圈，该第2致动器具有相互对置地配置的第2磁铁和第2线圈，

所述第2致动器配置于比所述第1致动器更靠近所述支承部件的位置，

对所述第2磁铁设置的部件比对所述第1磁铁设置的部件厚。

2.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

所述部件由与构成所述反射镜的材质相同的材质构成。

3.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

所述部件与所述磁铁的接合面的面积为所述磁铁的剖面的面积的1/4以下。

4.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

所述部件与所述反射镜的线膨胀系数之差比所述磁铁与所述反射镜的线膨胀系数之差小。

5.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

在所述反射镜与所述部件之间还包括将所述反射镜与所述部件结合的结合部件。

6.根据权利要求5所述的光学装置，其特征在于，

所述结合部件的厚度比所述部件的厚度薄。

7.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

所述光学装置还包括基座平台，该基座平台支承所述致动器的线圈，

所述第2线圈配置于设置于所述基座平台的凹部的内侧。

8.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

所述部件将和所述部件与所述磁铁的接合面平行的剖面面积比所述磁铁的所述部件侧的面的面积小的部分包括为一部分。

9.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

所述多个致动器沿着接近所述支承部件的方向配置，

分别对所述多个致动器设置的部件构成为随着所述致动器的位置靠近所述支承部件而变厚。

10.根据权利要求1所述的光学装置，其特征在于，

所述光学装置还包括控制部，该控制部控制所述多个致动器，以使所述反射镜的形状成为目标形状。

11.一种曝光装置，对基板进行曝光，所述曝光装置的特征在于，

包括将掩模的图案投影到所述基板的投影光学系统，

所述投影光学系统包括使反射镜变形的光学装置，

所述光学装置包括对所述反射镜施加力的多个致动器，

所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，

所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，

所述部件具有所述部件与所述磁铁的接合面比所述部件与所述反射镜的接合面小的锥形形状，

与所述磁铁接合的所述部件的接合面的面积比所述磁铁的所述部件侧的面的面积小，

所述光学装置还包括支承所述反射镜的支承部件，

所述多个致动器包括第1致动器以及第2致动器，该第1致动器具有相互对置地配置的第1磁铁和第1线圈，该第2致动器具有相互对置地配置的第2磁铁和第2线圈，

所述第2致动器配置于比所述第1致动器更靠近所述支承部件的位置，

对所述第2磁铁设置的部件比对所述第1磁铁设置的部件厚。

12.一种物品的制造方法，其特征在于，具有：

使用曝光装置对基板进行曝光的工序；以及

使在所述工序中被曝光后的所述基板显影的工序，

所述曝光装置包括将掩模的图案投影到所述基板的投影光学系统，

所述投影光学系统包括使反射镜变形的光学装置，

所述光学装置包括对所述反射镜施加力的多个致动器，

所述多个致动器的各个致动器具有相互对置地配置的磁铁和线圈，

所述磁铁隔着部件被所述反射镜支承，

所述部件具有所述部件与所述磁铁的接合面比所述部件与所述反射镜的接合面小的锥形形状，

与所述磁铁接合的所述部件的接合面的面积比所述磁铁的所述部件侧的面的面积小，

所述光学装置还包括支承所述反射镜的支承部件，

所述多个致动器包括第1致动器以及第2致动器，该第1致动器具有相互对置地配置的第1磁铁和第1线圈，该第2致动器具有相互对置地配置的第2磁铁和第2线圈，

所述第2致动器配置于比所述第1致动器更靠近所述支承部件的位置，

对所述第2磁铁设置的部件比对所述第1磁铁设置的部件厚。