[发明专利]一种日式低温陶瓷釉及其应用方法在审
| 申请号： | 201711355887.6 | 申请日： | 2017-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN109928625A | 公开（公告）日： | 2019-06-25 |
| 发明（设计）人： | 叶剑 | 申请（专利权）人： | 叶剑 |
| 主分类号： | C03C8/00 | 分类号： | C03C8/00;C04B41/86 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 333000 江西省景德*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 低温陶瓷 方解石 滑石 重量百分比 瓷质釉面 原料配比 原料配方 制备工艺 钾长石 氧化铝 黄蜡 石英 应用 柔和 | ||
【权利要求书】：
1.一种日式低温陶瓷釉及其应用方法，其特征在于：所述日式低温陶瓷釉原料配方的重量百分比组成为：黄蜡石 9～18%、江东土 8～14%、滑石10～18%、方解石 12～19%、钾长石27～35%、石英7～17%、氧化铝2～5%。
2.根据权利要求1所述日式低温陶瓷釉的应用方法，其特征在于：将所述日式低温陶瓷釉按其原料配方组成混合后，经过球磨、过筛后获得釉浆，然后以浸釉的方式，将釉浆施于具有高透光性的高白泥素坯上，再通过低温釉烧的方式获得日式低温陶瓷产品。
3.根据权利要求2所述的应用方法，其特征在于：所述日式低温陶瓷釉过滤工序为过250目筛，筛余小于0.1%。
4.根据权利要求2所述的应用方法，其特征在于：所述高白泥素坯的素烧温度为750℃。
5.根据权利要求2所述的应用方法，其特征在于：所述中温釉烧温度为1120～1150℃。
6.根据权利要求2所述的应用方法，其特征在于：所述青釉施于高白泥素坯上的釉层厚度为1.5～2mm。
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