[发明专利]蒸镀坩埚和蒸镀装置有效
| 申请号: | 201711354594.6 | 申请日: | 2017-12-15 |
| 公开(公告)号: | CN107916401B | 公开(公告)日: | 2023-09-22 |
| 发明(设计)人: | 孙力 | 申请(专利权)人: | 合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人: | 王辉;阚梓瑄 |
| 地址: | 230012 *** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 坩埚 装置 | ||
1.一种蒸镀坩埚,其特征在于,包括:
坩埚埚体,具有环形的第一连接面,所述第一连接面为平面;
坩埚盖体,具有环形的第二连接面,所述第二连接面为平面;
隔垫环,设置为与所述第一连接面以及所述第二连接面相适配的环形,所述隔垫环位于所述第一连接面与所述第二连接面之间;
所述隔垫环的与所述第一连接面接触的一面设置有至少一个孔洞;
所述孔洞为连通所述坩埚埚体与所述坩埚盖体的通孔。
2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述通孔的与所述第一连接面平行的截面的形状为多边形、圆形中的一种或多种。
3.根据权利要求1~2任意一项所述的蒸镀坩埚,其特征在于,所述隔垫环的与所述第一连接面接触的部分设置为平面,以及所述隔垫环的与所述第二连接面接触的部分设置为平面。
4.一种蒸镀装置,其特征在于,包括:
权利要求1~3任意一项所述的蒸镀坩埚。
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