[发明专利]一种除臭抗菌镜片镀膜方法

权利要求书

1.一种除臭抗菌镜片镀膜方法，所述镜片包括由树脂或玻璃成型的基片，所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一膜层、第二膜层和第三膜层；所述第一膜层为纳米二氧化钛层，厚度为60-90nm；所述第二膜层为纳米银层，厚度为25-40nm；所述第三膜层为ITO层，厚度为30-80nm；其特征在于：所述基片由树脂成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗、干燥；

2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；

A、分别对双面镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第一膜层的膜材为纳米二氧化钛颗粒，形成纳米二氧化钛层；

B、分别对双面镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为1Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第二膜层的膜材为Ag2O、AgO或Ag2O3，形成纳米银层；

C、分别对双面镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为50-70℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第三膜层的膜材为ITO材料，形成ITO层。

2.根据权利要求1所述的一种除臭抗菌镜片镀膜方法，其特征在于：所述基片由玻璃成型时，所述镀膜方法具体包括以下步骤：

1）对基片进行清洗、干燥；

2）分别对基片的内、外两个表面进行镀膜；

A、分别对双面镀第一膜层：

将真空镀膜舱内的真空度调整至小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第一膜层的膜材，第一膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一膜层蒸镀的速率为7Å/S，第一膜层最终形成后的厚度为60-90nm；其中，所述第一膜层的膜材为纳米二氧化钛颗粒，形成纳米二氧化钛层；

B、分别对双面镀第二膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，同时保持真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第二膜层的膜材，第二膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤A中第一膜层的表面，同时控制第二膜层蒸镀的速率为1Å/S，第二膜层最终形成后的厚度为25-40nm；其中，所述第二膜层的膜材为Ag2O、AgO或Ag2O3，形成纳米银层；

C、分别对双面镀第三膜层：

保持真空镀膜舱内的真空度小于或等于5.0×10-3帕，并控制真空镀膜舱内的温度为200-300℃，采用电子枪轰击第三膜层的膜材，第三膜层的膜材蒸发后以纳米级分子形式沉积于上述步骤B中第二膜层的表面，同时控制第三膜层蒸镀的速率为1Å/S，第三膜层最终形成后的厚度为30-80nm；其中，所述第三膜层的膜材为ITO材料，形成ITO层。

3.根据权利要求1或者2所述的一种除臭抗菌镜片镀膜方法，其特征在于：所述的步骤1）中对基片进行清洗、干燥的具体步骤如下：采用有机溶剂清洗剂对基片进行初次清洗，并以超声波辅助清洗，采用异丙醇干燥；在基片镀膜前，将基片放在真空舱内，用离子枪轰击基片的外表面2-3分钟进行再次清洗。