[发明专利]TFT阵列基板全接触式测试线路有效
申请号: | 201711351770.0 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN108122804B | 公开(公告)日: | 2019-12-03 |
发明(设计)人: | 陈彩琴 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;H01L27/12 |
代理公司: | 44265 深圳市德力知识产权代理事务所 | 代理人: | 林才桂<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测试芯片 面板切割 测试端子 测试线路 全接触 切割 测试设备 接触测试 静电放电 距离加大 连接测试 驱动端子 驱动芯片 源/漏极 有机层 同层 源层 走线 绝缘 制作 成功率 半导体 界线 腐蚀 测试 覆盖 | ||
1.一种TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,包括多条数据线(1)、设于所述多条数据线(1)的扇出区(11)之外的驱动芯片(3)及设于所述驱动芯片(3)远离所述扇出区(11)一侧的测试芯片(5),并且所述驱动芯片(3)位于面板切割界线(7)之内,而所述测试芯片(5)位于面板切割界线(7)之外;
所述驱动芯片(3)包括多个驱动端子(31),一驱动端子(31)对应电性连接一数据线(1);所述测试芯片(5)包括多个测试端子(51),一测试端子(51)至少通过一走线(35)电性连接一驱动端子(31);
所述驱动端子(31)与测试端子(51)均由与TFT阵列基板内TFT的有源层同层的半导体(S)及与TFT阵列基板内TFT的源/漏极同层的金属(M)制作而成,所述走线(35)由与TFT阵列基板内TFT的有源层同层的半导体(S)制作而成。
2.如权利要求1所述的TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,所述与TFT阵列基板内TFT的有源层同层的半导体(S)为掺杂了磷离子或硼离子的多晶硅。
3.如权利要求1所述的TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,所述与TFT阵列基板内TFT的源/漏极同层的金属(M)为钼、钛、铝、铜中的一种或几种的层叠组合。
4.如权利要求1所述的TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,完成TFT阵列基板全接触式测试后,所述测试芯片(5)在面板切割时被切割掉。
5.如权利要求1所述的TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,所述测试端子(51)的数量与所述驱动端子(31)的数量相等,一测试端子(51)通过一走线(35)对应电性连接一驱动端子(31)。
6.如权利要求1所述的TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,所述驱动端子(31)的数量是所述测试端子(51)的数量的m倍,m为大于1的正整数,一测试端子(51)通过相邻的m条走线(35)与多路复用器(6)对应电性连接相邻的m个驱动端子(31)。
7.如权利要求6所述的TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,所述驱动端子(31)的数量是所述测试端子(51)的数量的两倍,一测试端子(51)通过相邻的两条走线(35)与多路复用器(6)对应电性连接相邻的两个驱动端子(31);
所述多路复用器(6)包括间隔设置的第一开关薄膜晶体管(T1)与第二开关薄膜晶体管(T2);所述第一开关薄膜晶体管(T1)的栅极接入第一控制信号(MS1),所述第二开关薄膜晶体管(T2)的栅极接入第二控制信号(MS2);设n为正整数,第n个测试端子(51)与第2n-1条测试走线(35)分别电线连接第n个第一开关薄膜晶体管(T1)的源极与漏极,第2n-1条测试走线(35)电性连接第2n-1个驱动端子(31);第n个测试端子(51)与第2n条测试走线(35)分别电线连接第n个第二开关薄膜晶体管(T2)的源极与漏极,第2n条测试走线(35)电性连接第2n个驱动端子(31)。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造