[发明专利]TFT阵列基板全接触式测试线路有效

专利信息
申请号: 201711351770.0 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN108122804B 公开(公告)日: 2019-12-03
发明(设计)人: 陈彩琴 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;H01L27/12
代理公司: 44265 深圳市德力知识产权代理事务所 代理人: 林才桂<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 测试芯片 面板切割 测试端子 测试线路 全接触 切割 测试设备 接触测试 静电放电 距离加大 连接测试 驱动端子 驱动芯片 源/漏极 有机层 同层 源层 走线 绝缘 制作 成功率 半导体 界线 腐蚀 测试 覆盖
【权利要求书】:

1.一种TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,包括多条数据线(1)、设于所述多条数据线(1)的扇出区(11)之外的驱动芯片(3)及设于所述驱动芯片(3)远离所述扇出区(11)一侧的测试芯片(5),并且所述驱动芯片(3)位于面板切割界线(7)之内,而所述测试芯片(5)位于面板切割界线(7)之外;

所述驱动芯片(3)包括多个驱动端子(31),一驱动端子(31)对应电性连接一数据线(1);所述测试芯片(5)包括多个测试端子(51),一测试端子(51)至少通过一走线(35)电性连接一驱动端子(31);

所述驱动端子(31)与测试端子(51)均由与TFT阵列基板内TFT的有源层同层的半导体(S)及与TFT阵列基板内TFT的源/漏极同层的金属(M)制作而成,所述走线(35)由与TFT阵列基板内TFT的有源层同层的半导体(S)制作而成。

2.如权利要求1所述的TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,所述与TFT阵列基板内TFT的有源层同层的半导体(S)为掺杂了磷离子或硼离子的多晶硅。

3.如权利要求1所述的TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,所述与TFT阵列基板内TFT的源/漏极同层的金属(M)为钼、钛、铝、铜中的一种或几种的层叠组合。

4.如权利要求1所述的TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,完成TFT阵列基板全接触式测试后,所述测试芯片(5)在面板切割时被切割掉。

5.如权利要求1所述的TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,所述测试端子(51)的数量与所述驱动端子(31)的数量相等,一测试端子(51)通过一走线(35)对应电性连接一驱动端子(31)。

6.如权利要求1所述的TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,所述驱动端子(31)的数量是所述测试端子(51)的数量的m倍,m为大于1的正整数,一测试端子(51)通过相邻的m条走线(35)与多路复用器(6)对应电性连接相邻的m个驱动端子(31)。

7.如权利要求6所述的TFT阵列基板全接触式测试线路,其特征在于,所述驱动端子(31)的数量是所述测试端子(51)的数量的两倍,一测试端子(51)通过相邻的两条走线(35)与多路复用器(6)对应电性连接相邻的两个驱动端子(31);

所述多路复用器(6)包括间隔设置的第一开关薄膜晶体管(T1)与第二开关薄膜晶体管(T2);所述第一开关薄膜晶体管(T1)的栅极接入第一控制信号(MS1),所述第二开关薄膜晶体管(T2)的栅极接入第二控制信号(MS2);设n为正整数,第n个测试端子(51)与第2n-1条测试走线(35)分别电线连接第n个第一开关薄膜晶体管(T1)的源极与漏极,第2n-1条测试走线(35)电性连接第2n-1个驱动端子(31);第n个测试端子(51)与第2n条测试走线(35)分别电线连接第n个第二开关薄膜晶体管(T2)的源极与漏极,第2n条测试走线(35)电性连接第2n个驱动端子(31)。

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