[发明专利]光学系统、光学装置和图像拾取装置有效
申请号: | 201711343365.4 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN108227159B | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
发明(设计)人: | 小林加奈 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G02B13/18 | 分类号: | G02B13/18 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 杨小明 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学系统 光学 装置 图像 拾取 | ||
1.一种光学系统,其特征在于包括在聚焦期间沿着不同轨迹移动的第一聚焦单元和第二聚焦单元,所述光学系统包括第一布置状态和第二布置状态,
其中,在第一布置状态下,第一聚焦单元和第二聚焦单元被布置成在保持预先确定的物距处的焦点对准状态的同时产生所述光学系统的第一像差,并且在第二布置状态下,第一聚焦单元和第二聚焦单元被布置成在保持所述预先确定的物距处的焦点对准状态的同时产生所述光学系统的不同于第一像差的第二像差,
其中仅通过移动第一聚焦单元和第二聚焦单元来将第一布置状态变为第二布置状态,
其中,满足以下条件表达式:
其中,S1被定义为S1=(1-βi12)×βi1r2,S2被定义为S2=(1-βi22)×βi2r2,并且其中βi1是第一聚焦单元在第一布置状态下的横向倍率,βi2是第二聚焦单元在第一布置状态下的横向倍率,βi1r是在第一布置状态下被布置为比第一聚焦单元更靠近像侧的透镜单元的合成横向倍率,以及βi2r是在第一布置状态下被布置为比第二聚焦单元更靠近像侧的透镜单元的合成横向倍率,
其中,X1是第一聚焦单元在从第一布置状态变为第二布置状态时的移动量,以及X2是第二聚焦单元在从第一布置状态变为第二布置状态时的移动量。
2.根据权利要求1所述的光学系统,其中,第一布置状态和第二布置状态是所述光学系统在无限远物体上焦点对准的布置状态。
3.根据权利要求1所述的光学系统,其中,满足以下条件表达式:
0.99Li/Lj1.01,
其中,Li是所述光学系统在第一布置状态下的总长,以及Lj是所述光学系统在第二布置状态下的总长。
4.根据权利要求1所述的光学系统,其中,满足以下条件表达式:
0.9(βi1×βi2)/(βj1×βj2)1.1,
其中,βi1是第一聚焦单元在第一布置状态下的横向倍率,βi2是第二聚焦单元在第一布置状态下的横向倍率,βj1是第一聚焦单元在第二布置状态下的横向倍率,以及βj2是第二聚焦单元在第二布置状态下的横向倍率。
5.根据权利要求1所述的光学系统,所述光学系统还包括第三布置状态,其中,在第三布置状态下,第一聚焦单元和第二聚焦单元被布置为使得满足以下条件表达式:
I0,
其中,I是聚焦于无限远物体上时的三阶像差系数。
6.根据权利要求1所述的光学系统,其中,满足以下条件表达式:
β-0.1,
其中,β是当聚焦于最近的物体上时的像倍率。
7.根据权利要求1所述的光学系统,其中,满足以下条件表达式:
0.4|f1/f2|2.5,
其中,f1是第一聚焦单元的焦距,以及f2是第二聚焦单元的焦距。
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