[发明专利]电极板及其表面处理方法

权利要求书

1.一种电极板的表面处理方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤1、提供电极板(10)，所述电极板(10)包括镁铝合金材料层(11)；

对所述电极板(10)进行退火处理，使一部分镁元素从镁铝合金材料层(11)中析出，在镁铝合金材料层(11)表面形成一层镁薄膜(12)；

步骤2、将所述电极板(10)设于密闭腔室中，在所述密闭腔室中通入含有氟离子的等离子体，所述电极板(10)表面的镁薄膜(12)与氟离子发生化学反应，在所述电极板(10)表面形成氟化镁薄膜(13)。

2.如权利要求1所述的电极板的表面处理方法，其特征在于，所述步骤2中，当所述镁薄膜(12)完全反应时，整个镁薄膜(12)转化为氟化镁薄膜(13)。

3.如权利要求1所述的电极板的表面处理方法，其特征在于，所述步骤1中，对所述电极板(10)进行退火处理的温度为500℃～700℃，保温时间为30分钟至2小时。

4.如权利要求1所述的电极板的表面处理方法，其特征在于，所述镁铝合金材料层(11)中，镁元素的含量为0.2wt％～2wt％；。

5.如权利要求1所述的电极板的表面处理方法，其特征在于，所述步骤1得到的镁薄膜(12)的厚度为5～10μm。

6.如权利要求1所述的电极板的表面处理方法，其特征在于，所述步骤2中，所述含有氟离子的等离子体为含氟气体的等离子体；所述含氟气体包括NF3与SF6中的一种或多种。

7.如权利要求6所述的电极板的表面处理方法，其特征在于，所述电极板(10)为PECVD设备中用来产生射频电场的电极板，所述电极板(10)的数量为两个，呈相对设置；

所述步骤2的具体操作为：向PECVD设备中通入含氟气体，对相对设置的两个电极板(10)进行通电，使两个电极板(10)之间产生射频电场，含氟气体在射频电场作用下解离为含有氟离子的等离子体，所述两个电极板(10)表面的镁薄膜(12)与氟离子发生化学反应，在所述电极板(10)表面形成氟化镁薄膜(13)。

8.一种电极板(10)，其特征在于，包括表面的氟化镁薄膜(13)以及所述氟化镁薄膜(13)之下的镁铝合金材料层(11)。

9.如权利要求8所述的电极板(10)，其特征在于，所述氟化镁薄膜(13)设置于所述镁铝合金材料层(11)表面，所述氟化镁薄膜(13)的厚度为5～10μm。

10.如权利要求8所述的电极板(10)，其特征在于，所述镁铝合金材料层(11)与氟化镁薄膜(13)之间还设有镁薄膜(12)，所述镁薄膜(12)与氟化镁薄膜(13)的总厚度为5～10μm。