[发明专利]带防污膜的透明基体

权利要求书

1.一种带防污膜的透明基体，其具有：

具有第一主面和与所述第一主面相对的第二主面的透明基体、和

设置在所述透明基体的所述第一主面侧的包含含氟有机硅化合物的防污膜，

所述透明基体的所述第一主面的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且所述透明基体的所述第一主面的粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下，

所述防污膜的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且所述防污膜的粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下，并且

所述防污膜通过复写所述透明基体的所述第一主面的表面形状而形成。

2.如权利要求1所述的带防污膜的透明基体，其中，所述带防污膜的透明基体的雾度为2％以上且30％以下。

3.如权利要求1或2所述的带防污膜的透明基体，其中，所述透明基体为玻璃基板。

4.如权利要求3所述的带防污膜的透明基体，其中，

在所述透明基体的所述第一主面通过实施磨砂处理而形成凹凸形状。

5.如权利要求1、2、4中任一项所述的带防污膜的透明基体，其中，在所述透明基体的所述第一主面的表面上依次层叠有低反射膜、所述防污膜，所述低反射膜为含有选自氧化铌、氧化钛、氧化锆、氮化硅和氧化钽中的一种以上的层与氧化硅层的层叠体。

6.如权利要求1、2、4中任一项所述的带防污膜的透明基体，其中，在所述透明基体的所述第一主面的表面上依次层叠有低反射膜、所述防污膜，所述低反射膜为层叠多个层而得到的层叠体，该层叠体中总计层叠有2层以上且6层以下的层。

7.如权利要求1、2、4中任一项所述的带防污膜的透明基体，其中，所述防污膜的表面粗糙度RMS为0.08μm以上且0.20μm以下。

8.如权利要求1、2、4中任一项所述的带防污膜的透明基体，其中，所述防污膜的粗糙度曲线要素的平均长度RSm为15μm以上且35μm以下。

9.一种带防污膜的透明基体的制造方法，所述制造方法包括

对具有第一主面和与所述第一主面相对的第二主面的透明基体的所述第一主面实施喷砂处理的工序，和

在所述透明基体的所述第一主面侧形成包含含氟有机硅化合物的防污膜的工序，

其中，

所述透明基体的所述第一主面的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且所述透明基体的所述第一主面的粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下，

通过复写所述透明基体的所述第一主面的表面形状而形成所述防污膜，并且

所述防污膜的表面粗糙度RMS为0.05μm以上且0.25μm以下，且所述防污膜的粗糙度曲线要素的平均长度RSm为10μm以上且40μm以下。