[发明专利]一种用于浸没式光刻的超纯水脱气装置

权利要求书

1.一种用于浸没式光刻的超纯水脱气装置，包括有第一真空泵、第一真空压力变送器、第一气液分离罐、以及第一脱气膜的前级脱气系统；有氢气接入源、第四电磁阀、气体压力控制器、第三电磁阀、第一电磁阀以及催化除氧器的催化除氧系统；有第二脱气膜、第二真空压力变送器、第二真空泵第二气液分离罐、氮气接入源、第三电磁阀、气体流量控制器的后级脱气系统；其特征在于：所述的前级脱气系统中第一脱气膜下端入水口作为第一超纯水入口，第一脱气膜上端出水口为第一超纯水出口与催化除氧系统中催化除氧器的第二超纯水入口连接；催化除氧器的出水口接后级脱气系统中第二脱气膜的入水口，第二脱气膜的出水口作为第二超纯水出口输出经脱气后的超纯水；

所述的第一脱气膜气相侧的上下两个出气口连成一路后通过第一气液分离罐与第二真空泵连接，第一真空泵与第一气液分离罐出气口之间设置有第一真空压力变送器；第二脱气膜气相侧的上出气口通过第二气液分离罐与第一真空泵连接，第二脱气膜气相侧的上出气口与第二气液分离罐的入气口之间设置有第二真空压力变送器；第二脱气膜气相侧的下气体通道接气体流量控制器的出气口，氮气接入源通过第二电磁阀接气体流量控制器的入气口；

所述的氢气接入源通过第四电磁阀接气体压力控制器的入气口，气体压力控制器的出气口与下入气口连成一路通道后接第三电磁阀的入气口，第三电磁阀的出气口与上入气口连成一路通道后通过第一电磁阀接第一气液分离罐。

2.如权利要求1所述的一种用于浸没式光刻的超纯水脱气装置，其特征在于：所述的催化除氧器包括聚丙烯中空纤维膜、载钯离子树脂、精制离子树脂、微孔网筛以及外壳；外壳上下两侧顶端设置有上入气口和下入气口，外壳上表面设置有第二超纯水入口；上入气口和下入气口一端伸出外壳侧面，另一端分别与聚丙烯中空纤维膜的两端连接；在聚丙烯中空纤维膜四周从下到上依次填充微孔网筛、精制离子树脂和载钯离子树脂(这三层的厚度是否有要求)。

3.如权利要求1所述的一种用于浸没式光刻的超纯水脱气装置，其特征在于：所述的氮气流量为1-10L/min，真空度为50-70mbar。