[发明专利]黑色矩阵用负型感光性树脂组成物、黑色矩阵、彩色滤光片以及液晶显示元件

说明书

本发明提供一种黑色矩阵用负型感光性树脂组成物、黑色矩阵、彩色滤光片以及液晶显示元件。所制得的黑色矩阵无显影残渣且密着性优异。黑色矩阵用负型感光性树脂组成物包含碱可溶性树脂(A)、含乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)、溶剂(D)以及黑色颜料(E)。碱可溶性树脂(A)包括具有特定基团的碱可溶性树脂(A‑1)以及具有特定基团的碱可溶性树脂(A‑2)。

技术领域

本发明涉及一种黑色矩阵用负型感光性树脂组成物、黑色矩阵、彩色滤光片以及液晶显示元件，尤其涉及一种可减少残渣以及提高密着性的黑色矩阵的黑色矩阵用负型感光性树脂组成物、由所述黑色矩阵用负型感光性树脂组成物制得的黑色矩阵、包含所述黑色矩阵的彩色滤光片以及包含所述彩色滤光片的液晶显示元件。

背景技术

近年来，随着各式各样的液晶显示装置技术蓬勃发展，而为了提高目前液晶显示装置的对比度及显示质量，通常会于液晶显示装置中的彩色滤光片的条纹(Stripe)及点(Dot)间隙中放置黑色矩阵(Black Matrix)。上述黑色矩阵可防止因像素间的漏光(LightLeakage)所引起的对比度(Contrast Ratio)下降及色纯度(Color Purity)下降等问题。

一般而言，黑色矩阵所使用的材料皆以含有铬或氧化铬等的蒸镀膜为主。然而，以上述蒸镀膜作为黑色矩阵的材料时，存在处理复杂且材料昂贵等缺点。为了解决此问题，先前提出有利用感光性树脂组成物通过光平版印刷(Photo Lithographic)的方式形成黑色矩阵的技术。

随着对于黑色矩阵的遮光性要求日益提高，其解决方法之一就是增加黑色颜料的使用量，藉此提高黑色矩阵的遮光性。举例而言，日本专利特开第2006-259716号公报揭示一种黑色矩阵用感光性树脂组成物，其包含高使用量的黑色颜料、碱可溶性树脂、光聚合起始剂、具有二官能基的反应性化合物以及有机溶剂。值得注意的是，具有二官能基的反应性化合物可改善化合物的间的反应，以形成精细的图案(Fine Pattern)。藉此，于感光性树脂组成物中，当以提升黑色颜料使用量的方式以增加遮光性的同时，尚可保持感光性树脂组成物的感度。

另外，日本专利特开第2008-268854号公报揭示一种黑色矩阵用的感光性树脂组成物。上述感光性树脂组成物包含具有羧酸基及具有不饱和基的碱可溶性树脂、具有乙烯性不饱和基的光聚合化合物、光聚合起始剂及高使用量的黑色颜料。上述黑色矩阵用感光性树脂组成物中，通过使用特定的碱可溶性树脂来改善高使用量黑色颜料的感光性树脂组成物的解析度。

虽然现有技术中提高了黑色颜料使用量的感光性树脂组成物能够增加遮光性。然而，以上述现有的感光性树脂组成物来形成的黑色矩阵存在显影残渣且密着性不佳。

因此，如何能提供一种可减少残渣以及提高密着性的黑色矩阵的黑色矩阵用感光性树脂组成物，实为目前本领域技术人员亟欲解决的问题。

专利文献

专利文献1日本专利特开2006-259716号公报

专利文献2日本专利特开2008-268854号公报

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种用于彩色滤光片的黑色矩阵的负型感光性树脂组成物，使用所述负型感光性树脂组成物所制得的黑色矩阵能够改善上述黑色矩阵的显影残渣及密着性不佳的问题。

本发明提供一种黑色矩阵用负型感光性树脂组成物，包括：碱可溶性树脂(A)、含乙烯性不饱和基的化合物(B)、光起始剂(C)、溶剂(D)以及黑色颜料(E)。其中，碱可溶性树脂(A)包括碱可溶性树脂(A-1)以及碱可溶性树脂(A-2)，且碱可溶性树脂(A-1)具有支链烷基、酸基及聚合性不饱和键，碱可溶性树脂(A-2)具有芳香基、酸基及聚合性不饱和键。