[发明专利]基于石墨烯的光电发射电离源在审
申请号: | 201711329749.0 | 申请日: | 2017-12-13 |
公开(公告)号: | CN108109892A | 公开(公告)日: | 2018-06-01 |
发明(设计)人: | 王小蓓;刘海滨;谭化兵 | 申请(专利权)人: | 无锡格菲电子薄膜科技有限公司 |
主分类号: | H01J27/20 | 分类号: | H01J27/20;H01J49/14 |
代理公司: | 北京世衡知识产权代理事务所(普通合伙) 11686 | 代理人: | 肖淑芳;郝文博 |
地址: | 214000 江苏省无锡市惠山经*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 石墨烯 第一电极 电极 支撑体 光电发射电离源 发射装置 电源 第一表面 结构层 正极 负极 第二表面 电极连接 相向 照射 | ||
本发明提供一种基于石墨烯的光电发射电离源,包括电源、第一电极、石墨烯电极和光致发射装置,所述电源的正极与第一电极连接,所述电源的负极与石墨烯电极连接,所述光致发射装置对所述石墨烯电极进行照射;其中,所述石墨烯电极包括:支撑体,所述支撑体包括第一表面和第二表面;设置于支撑体第一表面的石墨烯结构层;所述石墨烯结构层与第一电极相向,并与第一电极之间留有样品通过的通道。
技术领域
本发明涉及一种光电效应的离子源装置,具体涉及一种基于石墨烯电极的光电效应的离子源,属于光电领域。
背景技术
离子源是使中性原子或分子电离,并从中引出离子束流的装置。它是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。
气体放电、电子束对气体原子(或分子)的碰撞,带电粒子束使工作物质溅射以及表面电离过程都能产生离子,并被引出成束。根据不同的使用条件和用途,目前已研制出多种类型的离子源。使用较广泛的有弧放电离子源、PIG离子源、双等离子体离子源和双彭源这些源都是以气体放电过程为基础的,常被笼统地称为弧源高频离子源则是由气体中的高频放电来产生离子的,也有广泛的用途。新型重离子源的出现,使重离子的电荷态显著提高,其中较成熟的有电子回旋共振离子源(ECR)和电子束离子源(EBIS)。
电离源是粒子迁移谱等分析仪器的关键技术之一。传统的离子迁移谱常用的电离源是放射性
为解决上述问题,我国发明CN1961403A公开了一种用在质谱分析器中的纳米碳管离子源,包括:电子发射器,配置其以控制电子束发射的第一控制栅格和配置以控制电子束能量的第二控制栅格;电离腔,其具有使电子束进入电离腔的电子束出口;电子透镜,其位于电子发射器组件和电离腔之间以聚集电子素;和至少一个电极,其位于离子束出口附近以聚集排出电离腔的电离样本分子;该技术方案中使用碳纳米管进行光电效应来产生离子,碳纳米管对光的反射系数相对金属来说比较低,但生产过程复杂,且需要花费较多的时间。我国发明CN106024573A公开了一种光电发射电离源,包括电源,所述电源正级与第一电极连接,所述电源负极连接线第二电极,所述第一电极和第二电极之间中间留有样口通过的通道,所述第二电极包括透明衬底,所述透明衬底的一侧设置有石墨烯层,所述石墨烯层与所述第一电极相对设置,在所述透明衬底的另一侧设置有用于照射的此外线发生装置。所述石墨烯层通过在所述透明衬底上直接涂覆石墨烯形成。该项技术中采用的涂覆石墨烯粉为作电极材料,对光的反射系数更低,光吸收效率不够理想。
背景技术部分的内容仅仅是发明人所知晓的技术,并不当然代表本领域的现有技术。
发明内容
针对现有技术存在问题中的一个或多个,本发明提供一种基于石墨烯的光电发射电离源,包括电源、第一电极、石墨烯电极和光致发射装置,所述电源的正极与第一电极连接,所述电源的负极与石墨烯电极连接,所述光致发射装置对所述石墨烯电极进行照射;其中,所述石墨烯电极包括:
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